| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-20页 |
| 1.1 课题背景及研究的目的和意义 | 第9-10页 |
| 1.2 国内外该方向的研究现状 | 第10-18页 |
| 1.2.1 光学窗口的电磁屏蔽方法 | 第10-12页 |
| 1.2.2 碳纳米管薄膜基本结构性质 | 第12-15页 |
| 1.2.3 溶液法制备碳纳米管薄膜 | 第15-16页 |
| 1.2.4 化学气相沉积法制备碳纳米管薄膜 | 第16-18页 |
| 1.3 本文的主要研究内容 | 第18-20页 |
| 第2章 碳纳米管薄膜的制备与表征方法 | 第20-27页 |
| 2.1 实验材料 | 第20-21页 |
| 2.1.1 实验试剂 | 第20页 |
| 2.1.2 实验设备与检测仪器 | 第20-21页 |
| 2.2 碳纳米管薄膜的溶液法制备工艺 | 第21-22页 |
| 2.3 碳纳米管薄膜的化学气相沉积方法制备工艺 | 第22-24页 |
| 2.4 SiO_2膜层的制备 | 第24页 |
| 2.5 薄膜结构及性能的表征方法 | 第24-27页 |
| 2.5.1 单壁碳纳米管分散液的测试 | 第24页 |
| 2.5.2 薄膜厚度测量 | 第24-25页 |
| 2.5.3 薄膜表面形貌及结构测试 | 第25-26页 |
| 2.5.4 薄膜光学性能测试 | 第26页 |
| 2.5.5 薄膜电学性能测试 | 第26-27页 |
| 第3章 单壁碳纳米管薄膜的溶液法制备与性能研究 | 第27-41页 |
| 3.1 单壁碳纳米管薄膜的溶液法制备研究 | 第27-30页 |
| 3.1.1 分散剂的种类和浓度对碳纳米管分散液质量的影响 | 第27-29页 |
| 3.1.2 分散剂浓度对单壁碳纳米管薄膜沉积速率的影响 | 第29-30页 |
| 3.2 不同制备工艺对单壁碳纳米管薄膜表面形貌的影响 | 第30-33页 |
| 3.2.1 硝酸后处理对单壁碳纳米管薄膜表面形貌的影响 | 第30-31页 |
| 3.2.2 分散剂浓度对于单壁碳纳米管薄膜表面形貌的影响 | 第31-33页 |
| 3.3 分散剂浓度对单壁碳纳米管薄膜光电性能的影响 | 第33-35页 |
| 3.3.1 分散剂浓度对单壁碳纳米管薄膜光学性能的影响 | 第33-34页 |
| 3.3.2 分散剂浓度对单壁碳纳米管薄膜电学性能的影响 | 第34-35页 |
| 3.4 厚度对于单壁碳纳米管薄膜整体性能的影响 | 第35-40页 |
| 3.4.1 厚度对单壁碳纳米管薄膜表面形貌的影响 | 第36-37页 |
| 3.4.2 厚度对单壁碳纳米管薄膜光学性能的影响 | 第37-38页 |
| 3.4.3 厚度对单壁碳纳米管薄膜电学性能的影响 | 第38页 |
| 3.4.4 厚度对单壁碳纳米管薄膜品质因子的影响 | 第38-40页 |
| 3.5 本章小结 | 第40-41页 |
| 第4章 单壁碳纳米管薄膜的化学气相沉积法制备与性能研究 | 第41-57页 |
| 4.1 单壁碳纳米管薄膜的化学气相沉积法制备研究 | 第41-49页 |
| 4.1.1 Ni催化剂薄膜的制备研究 | 第41-42页 |
| 4.1.2 反应温度的影响 | 第42-45页 |
| 4.1.3 Ar流量的影响 | 第45-46页 |
| 4.1.4 CH_4流量的影响 | 第46-47页 |
| 4.1.5 H_2流量的影响 | 第47-49页 |
| 4.2 碳纳米管薄膜厚度对其光电性能的影响 | 第49-52页 |
| 4.2.1 碳纳米管薄膜厚度对其光学性能的影响 | 第50页 |
| 4.2.2 碳纳米管薄膜厚度对其电学性能的影响 | 第50-51页 |
| 4.2.3 碳纳米管薄膜厚度对薄膜品质因子的影响 | 第51-52页 |
| 4.3 引入SiO_2过渡层对碳纳米管薄膜光电性能的影响 | 第52-55页 |
| 4.3.1 SiO_2过渡层厚度对薄膜光学性能的影响 | 第53-54页 |
| 4.3.2 SiO_2过渡层厚度对薄膜电学性能的影响 | 第54-55页 |
| 4.3.3 SiO_2过渡层厚度对薄膜品质因子的影响 | 第55页 |
| 4.4 本章小结 | 第55-57页 |
| 结论 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-66页 |
| 致谢 | 第66页 |
