| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 目录 | 第7-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-21页 |
| 1.1 引言 | 第9页 |
| 1.2 三氧化钨的基本性质和晶体结构 | 第9-11页 |
| 1.3 WO_3的制备方法 | 第11-14页 |
| 1.3.1 气相反应法 | 第11-12页 |
| 1.3.2 液相反应法 | 第12-14页 |
| 1.3.3 模板法 | 第14页 |
| 1.4 WO_3薄膜气敏传感器研究现状 | 第14-18页 |
| 1.4.1 WO_3气敏传感器的工作原理 | 第14-15页 |
| 1.4.2 WO_3基气敏传感器在环境检测中的应用 | 第15-16页 |
| 1.4.3 WO_3基气敏传感器在医疗领域的潜在应用 | 第16-17页 |
| 1.4.4 WO_3呼气检测中存在的问题及发展方向 | 第17-18页 |
| 1.5 WO_3纳米材料在光催化领域的应用 | 第18-19页 |
| 1.5.1 WO_3光催化分解水 | 第18页 |
| 1.5.2 WO_3光催化降解有机物 | 第18-19页 |
| 1.5.3 WO_3光催化降解中存在的问题及发展方向 | 第19页 |
| 1.6 本课题研究目的与内容 | 第19-21页 |
| 第二章 碳掺杂 WO_3的制备及其表征 | 第21-35页 |
| 2.1 实验原料与设备 | 第21-22页 |
| 2.2 样品的表征分析 | 第22-23页 |
| 2.3 碳掺杂 WO_3的制备 | 第23页 |
| 2.4 结果与讨论 | 第23-34页 |
| 2.4.1 X 射线衍射(XRD) | 第23-25页 |
| 2.4.2 热重-差热分析(TG-DSC) | 第25-26页 |
| 2.4.3 SEM 形貌分析 | 第26-28页 |
| 2.4.4 TEM 形貌分析 | 第28-29页 |
| 2.4.5 X 射线荧光光谱(XPS) | 第29-31页 |
| 2.4.6 拉曼散射光谱分析 | 第31-32页 |
| 2.4.7 N2吸附—脱附等温曲线 | 第32-33页 |
| 2.4.9 固体紫外-可见漫反射光谱 | 第33-34页 |
| 2.5 本章小结 | 第34-35页 |
| 第三章 碳掺杂 WO_3气敏性能研究 | 第35-47页 |
| 3.1 实验部分 | 第35页 |
| 3.1.1 实验仪器及材料 | 第35页 |
| 3.1.2 WO_3气敏元件的制备 | 第35页 |
| 3.2 气敏性能的测试 | 第35-36页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第36-44页 |
| 3.3.1 不同煅烧温度对 WO_3气敏性能的影响 | 第36-38页 |
| 3.3.2 不同工作温度对材料气敏性能的影响 | 第38-40页 |
| 3.3.3 WO_3-500 对不同气体的选择性 | 第40-42页 |
| 3.3.4 WO_3-500 气敏元件的稳定性研究 | 第42-44页 |
| 3.3.4.1 不同湿度条件对材料气敏性能的影响 | 第42-43页 |
| 3.3.4.2 WO_3-500 气敏元件的热稳定性和化学稳定性 | 第43-44页 |
| 3.4 气敏测试机理 | 第44-46页 |
| 3.5 本章小结 | 第46-47页 |
| 第四章 碳掺杂 WO_3可见光条件下光降解性能研究 | 第47-61页 |
| 4.1 实验部分 | 第47-49页 |
| 4.1.1 评价方法和参数确定 | 第47-49页 |
| 4.1.2 光降解性能测试 | 第49页 |
| 4.2 结果与分析 | 第49-58页 |
| 4.2.1 碳掺杂对 WO_3光降解性能的影响 | 第49-50页 |
| 4.2.2 亚甲基蓝降解反应动力学 | 第50-51页 |
| 4.2.3 催化剂用量对光降解性能的影响 | 第51-53页 |
| 4.2.4 促进剂对光降解性能的影响 | 第53-57页 |
| 4.2.5 催化剂的稳定性和重复性 | 第57-58页 |
| 4.3 光催化机理 | 第58-59页 |
| 4.4 本章小结 | 第59-61页 |
| 第五章 总结与展望 | 第61-63页 |
| 5.1 论文工作总结 | 第61-62页 |
| 5.2 工作展望 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-69页 |
| 硕士期间发表论文 | 第69-70页 |
| 致谢 | 第70页 |
