| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 图表清单 | 第9-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-20页 |
| 1.1 引言 | 第12页 |
| 1.2 石墨烯制备及性能 | 第12-18页 |
| 1.2.1 石墨烯的制备方法 | 第12-13页 |
| 1.2.2 石墨烯的性能研究 | 第13-15页 |
| 1.2.3 液栅调控的石墨烯器件 | 第15-17页 |
| 1.2.4 石墨烯霍尔器件 | 第17-18页 |
| 1.3 本论文的研究意义、研究方法和结果 | 第18-20页 |
| 第二章 石墨烯材料制备 | 第20-32页 |
| 2.1 引言 | 第20页 |
| 2.2 石墨烯的 CVD 生长 | 第20-22页 |
| 2.3 生长后石墨烯质量的表征 | 第22-26页 |
| 2.3.1 石墨烯质量的简单观测 | 第22-24页 |
| 2.3.2 石墨烯的SEM和Raman表征 | 第24-26页 |
| 2.4 铜箔表面形貌对石墨烯质量的影响 | 第26-31页 |
| 2.5 本章小结 | 第31-32页 |
| 第三章 石墨烯器件制备 | 第32-41页 |
| 3.1 引言 | 第32页 |
| 3.2 石墨烯转移 | 第32-34页 |
| 3.2.1 石墨烯转移至PET塑料上 | 第32-34页 |
| 3.2.2 石墨烯转移至 SiO_2/Si 片上 | 第34页 |
| 3.2.3 石墨烯转移至其他衬底 | 第34页 |
| 3.3 石墨烯器件制备 | 第34-40页 |
| 3.3.1 石墨烯液栅 FET 装置样品制备 | 第34-35页 |
| 3.3.2 石墨烯霍尔器件样品制备 | 第35-37页 |
| 3.3.3 I-V 测试 | 第37页 |
| 3.3.4 电子束曝光技术制备石墨烯器件 | 第37-40页 |
| 3.4 本章小结 | 第40-41页 |
| 第四章 液栅调控石墨烯场效应管的测量研究 | 第41-46页 |
| 4.1 引言 | 第41页 |
| 4.2 液栅调控石墨烯在去离子水、氯化钠溶液中的性能 | 第41-42页 |
| 4.3 液栅调控石墨烯在 PEI 溶液中的性能 | 第42-43页 |
| 4.4 不同溶液环境中液栅调控石墨烯的性能分析 | 第43-45页 |
| 4.5 本章小结 | 第45-46页 |
| 第五章 石墨烯霍尔器件在溶液中的霍尔响应和磁阻测量 | 第46-75页 |
| 5.1 引言 | 第46页 |
| 5.2 石墨烯霍尔响应和磁阻测量方法 | 第46-48页 |
| 5.3 石墨烯器件在不同溶液环境下的霍尔响应 | 第48-62页 |
| 5.3.1 空气和真空中的霍尔响应对比 | 第49-50页 |
| 5.3.2 低浓度氯化钠溶液中的霍尔响应 | 第50-52页 |
| 5.3.3 较高浓度氯化钠溶液中的霍尔响应 | 第52-53页 |
| 5.3.4 氯化锂和盐酸溶液中的霍尔响应 | 第53-55页 |
| 5.3.5 PEI 溶液中的霍尔响应 | 第55-58页 |
| 5.3.6 不同环境下霍尔响应调控对比 | 第58-62页 |
| 5.4 石墨烯器件在不同溶液环境下的磁阻变化 | 第62-70页 |
| 5.4.1 空气和真空中的磁阻变化对比 | 第62-63页 |
| 5.4.2 低浓度氯化钠溶液中的磁阻变化 | 第63-65页 |
| 5.4.3 较高浓度氯化钠溶液中的磁阻变化 | 第65-66页 |
| 5.4.4 PEI 溶液中的磁阻变化 | 第66-68页 |
| 5.4.5 不同环境下磁阻变化测量对比 | 第68-70页 |
| 5.5 其它测量研究 | 第70-74页 |
| 5.5.1 石墨烯器件霍尔响应的温度效应 | 第70-72页 |
| 5.5.2 石墨烯器件与 1020 元件的霍尔响应对比 | 第72-74页 |
| 5.6 本章小结 | 第74-75页 |
| 第六章 总结和展望 | 第75-77页 |
| 6.1 结论 | 第75-76页 |
| 6.2 后续工作展望 | 第76-77页 |
| 参考文献 | 第77-84页 |
| 致谢 | 第84-85页 |
| 硕士期间论文发表（录用）情况 | 第85页 |
