晶体硅光伏组件功率衰减机制研究
摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5-6页 |
第1章 绪论 | 第9-14页 |
1.1 研究背景 | 第9-10页 |
1.2 太阳电池发展历程 | 第10-11页 |
1.3 晶体硅光伏组件衰减的研究现状 | 第11-13页 |
1.4 本文主要研究内容与结构 | 第13-14页 |
第2章 晶体硅太阳电池的原理、制造工艺与衰减原因 | 第14-28页 |
2.1 晶体硅太阳电池工作原理 | 第14-15页 |
2.2 晶体硅光伏组件制作 | 第15-21页 |
2.2.1 晶体硅片工艺 | 第16页 |
2.2.2 电池片工艺 | 第16-20页 |
2.2.3 电池组件工艺 | 第20-21页 |
2.3 晶体硅太阳电池功率衰减原因 | 第21-26页 |
2.3.1 光致衰减 | 第21-22页 |
2.3.2 电势诱导衰减 | 第22-24页 |
2.3.3 热斑 | 第24-26页 |
2.3.4 蜗牛纹 | 第26页 |
2.3.5 其它衰减 | 第26页 |
2.4 本章小结 | 第26-28页 |
第3章 晶体硅光伏组件蜗牛纹研究 | 第28-35页 |
3.1 蜗牛纹组件形貌与性能 | 第28-31页 |
3.1.1 蜗牛纹外观形貌研究 | 第28-29页 |
3.1.2 蜗牛纹对组件影响 | 第29-31页 |
3.2 蜗牛纹微观分析 | 第31-33页 |
3.3 本章小结 | 第33-35页 |
第4章 晶体硅光伏组件PID衰减修复 | 第35-57页 |
4.1 光伏电站PID衰减测试与分析 | 第35-38页 |
4.1.1 PID衰减实地测试 | 第35-37页 |
4.1.2 PID组件衰减分析 | 第37-38页 |
4.2 偏压修复PID组件及修复后稳定性 | 第38-43页 |
4.2.1 偏压下组件功率修复 | 第38-41页 |
4.2.2 偏压修复后组件功率的稳定性 | 第41-43页 |
4.3 自然状态修复 | 第43-44页 |
4.4 干热环境下修复 | 第44-48页 |
4.5 湿热环境下修复 | 第48-51页 |
4.6 干热与偏压同时修复 | 第51-54页 |
4.7 多次PID修复对组件电性能影响 | 第54-56页 |
4.8 本章小结 | 第56-57页 |
第5章 总结 | 第57-58页 |
致谢 | 第58-59页 |
参考文献 | 第59-66页 |
攻读学位期间获得与学位论文相关的科研成果目录 | 第66页 |