| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-27页 |
| 1.1 引言 | 第10-11页 |
| 1.2 溅射镀膜 | 第11-18页 |
| 1.2.1 辉光放电与等离子体的产生 | 第11-13页 |
| 1.2.2 等离子体轰击作用 | 第13-14页 |
| 1.2.3 薄膜的形成与生长 | 第14-16页 |
| 1.2.4 薄膜的择优取向﹑相转变以及非理想化学计量比 | 第16-18页 |
| 1.3 薄膜的力学性能 | 第18-22页 |
| 1.3.1 薄膜的硬度 | 第18页 |
| 1.3.2 薄膜中的应力 | 第18-20页 |
| 1.3.3 薄膜的摩擦磨损 | 第20-22页 |
| 1.4 过渡族金属氮化物 | 第22-26页 |
| 1.4.1 TaN 薄膜薄膜 | 第23-24页 |
| 1.4.2 Ti_(1-x)Al_xN薄膜 | 第24-26页 |
| 1.5 选题依据和研究内容 | 第26-27页 |
| 第二章 薄膜样品的制备和表征 | 第27-33页 |
| 2.1 样品制备 | 第27-29页 |
| 2.1.1 磁控溅射工作的原理 | 第27-28页 |
| 2.1.2 实验装置 | 第28页 |
| 2.1.3 样品制备 | 第28-29页 |
| 2.2 样品表征 | 第29-33页 |
| 2.2.1 微观结构表征 | 第29-30页 |
| 2.2.2 性能表征 | 第30-33页 |
| 第三章 沉积条件对 TaN 薄膜的微观结构和力学性能的影响 | 第33-61页 |
| 3.1 引言 | 第33页 |
| 3.2 实验条件 | 第33-34页 |
| 3.3 漂浮电位下 N2流量对 TaN 薄膜微观结构和力学性能的影响 | 第34-48页 |
| 3.3.1 沉积速率﹑微观结构以及表面形貌 | 第34-40页 |
| 3.3.2 力学性能 | 第40-48页 |
| 3.4 基片偏压对 TaN 薄膜微观结构和力学性能的影响 | 第48-59页 |
| 3.4.1 微观结构以及表面形貌 | 第48-53页 |
| 3.4.2 力学性能 | 第53-57页 |
| 3.4.3 结果讨论 | 第57-59页 |
| 3.5 本章小结 | 第59-61页 |
| 第四章 沉积条件对 Ti_(1-x)Al_xN薄膜的微观结构和力学性能的影响 | 第61-78页 |
| 4.1 引言 | 第61页 |
| 4.2 实验条件 | 第61-62页 |
| 4.3 N_2流量对 Ti_(1-x)Al_xN薄膜微观结构和力学性能的影响 | 第62-70页 |
| 4.3.1 沉积速率﹑成分﹑微观结构以及表面形貌 | 第62-69页 |
| 4.3.2 力学性能 | 第69-70页 |
| 4.4 基片偏压对 Ti_(1-x)Al_xN薄膜微观结构和力学性能的影响 | 第70-76页 |
| 4.4.1 微观结构以及表面形貌 | 第70-75页 |
| 4.4.2 力学性能 | 第75-76页 |
| 4.5 小结 | 第76-78页 |
| 第五章 本文结论 | 第78-80页 |
| 参考文献 | 第80-92页 |
| 致谢 | 第92页 |
