| 致谢 | 第4-6页 |
| 摘要 | 第6-8页 |
| Abstract | 第8-9页 |
| 目录 | 第10-12页 |
| 第1章 绪论 | 第12-29页 |
| 1.1 透明导电氧化物薄膜(TCO) | 第12-19页 |
| 1.1.1 透明导电薄膜 | 第12-13页 |
| 1.1.2 透明导电氧化物薄膜(TCO)的研究和发展 | 第13页 |
| 1.1.3 TCO的种类及应用 | 第13-16页 |
| 1.1.4 TCO的物理性质 | 第16-18页 |
| 1.1.5 导电性和透明性的关系 | 第18-19页 |
| 1.2 氧化锌(ZnO)透明导电氧化物 | 第19-23页 |
| 1.2.1 ZnO的晶体结构和基本性质 | 第19-22页 |
| 1.2.2 ZnO的本征缺陷与非故意掺杂 | 第22页 |
| 1.2.3 ZnO薄膜的掺杂体系 | 第22-23页 |
| 1.3 铝掺杂氧化锌(AZO)薄膜的性质和研究现状 | 第23-27页 |
| 1.3.1 AZO透明导电薄膜的低温制备 | 第24-25页 |
| 1.3.2 AZO多层结构透明导电薄膜的低温制备 | 第25-27页 |
| 1.4 论文的研究动机 | 第27页 |
| 1.5 论文的研究内容 | 第27-29页 |
| 第2章 实验原理及设备、薄膜制备及表征 | 第29-43页 |
| 2.1 磁控溅射技术 | 第29-34页 |
| 2.1.1 磁控溅射原理 | 第29-31页 |
| 2.1.2 实验过程 | 第31-34页 |
| 2.2 薄膜生长与薄膜结构 | 第34-39页 |
| 2.2.1 薄膜生长概述 | 第34-35页 |
| 2.2.2 吸附、表面扩散与凝结 | 第35-38页 |
| 2.2.3 ZnO的溅射生长模型 | 第38-39页 |
| 2.3 薄膜表征 | 第39-40页 |
| 2.3.1 薄膜厚度的测定 | 第39页 |
| 2.3.2 薄膜结构的测定 | 第39-40页 |
| 2.3.3 薄膜表面形貌和薄膜组分的测定 | 第40页 |
| 2.3.4 光学性能的测定 | 第40页 |
| 2.3.5 电学性能的测定 | 第40页 |
| 2.4 一些重要参数的计算 | 第40-43页 |
| 2.4.1 晶粒尺寸 | 第40-41页 |
| 2.4.2 薄膜平面应力 | 第41页 |
| 2.4.3 晶格常数 | 第41-42页 |
| 2.4.4 方块电阻 | 第42页 |
| 2.4.5 光学带宽 | 第42页 |
| 2.4.6 品质因子 | 第42-43页 |
| 第3章 Al掺杂氧化锌(AZO)薄膜结构及性能的优化 | 第43-62页 |
| 3.1 背景介绍 | 第43-44页 |
| 3.2 衬底温度的影响 | 第44-53页 |
| 3.2.1 衬底温度对结构性能的影响 | 第46-48页 |
| 3.2.2 衬底温度对光电性能的影响 | 第48-53页 |
| 3.2.3 本节小结 | 第53页 |
| 3.3 溅射功率的影响 | 第53-61页 |
| 3.3.1 溅射功率对结构性能的影响 | 第55-59页 |
| 3.3.2 溅射功率对光电性能的影响 | 第59-61页 |
| 3.4 本章小结 | 第61-62页 |
| 第4章 Ag基AZO多层薄膜的低温制备及性能优化 | 第62-75页 |
| 4.1 多层结构AZO的导电机理 | 第63-65页 |
| 4.1.1 多层结构导电膜的载流子 | 第63页 |
| 4.1.2 多层结构导电膜的电子迁移 | 第63-64页 |
| 4.1.3 多层薄膜并联模型 | 第64-65页 |
| 4.2 金属Ag层厚度对AZO多层薄膜性能的影响 | 第65-70页 |
| 4.2.1 Ag层厚度对结构性能的影响 | 第65-66页 |
| 4.2.2 Ag层厚度对光电性能的影响 | 第66-70页 |
| 4.3 AZO层厚度对AZO多层薄膜性能的影响 | 第70-74页 |
| 4.3.1 AZO层厚度对多层薄膜光电性能的影响 | 第70-74页 |
| 4.4 本章小结 | 第74-75页 |
| 第5章 总结与展望 | 第75-77页 |
| 5.1 全文总结 | 第75-76页 |
| 5.2 论文的不足及展望 | 第76-77页 |
| 参考文献 | 第77-80页 |
| 个人简历及在校期间所取得的科研成果 | 第80页 |
