| 摘要 | 第3-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 目录 | 第7-9页 |
| 第一章 文献综述 | 第9-21页 |
| 1.1 引言 | 第9-12页 |
| 1.1.1 CFCs与环境保护 | 第9-11页 |
| 1.1.2 四氟甲烷的性质与应用 | 第11-12页 |
| 1.2 多相催化 | 第12-13页 |
| 1.3 金属氧化物与金属氟化物 | 第13-15页 |
| 1.3.1 氟化铝的应用 | 第13-14页 |
| 1.3.2 氟化铝的制备 | 第14-15页 |
| 1.4 氟化氢的性质与应用 | 第15-16页 |
| 1.5 氟化铝研究现状 | 第16-19页 |
| 1.5.1 氟化铝实验方面的研究 | 第16-17页 |
| 1.5.2 氟化铝理论方面的研究 | 第17-19页 |
| 1.6 选题依据及研究内容 | 第19-21页 |
| 1.6.1 选题依据 | 第19页 |
| 1.6.2 研究内容 | 第19-21页 |
| 第二章 研究方法 | 第21-29页 |
| 2.1 密度泛函理论 | 第21-26页 |
| 2.1.1 发展历程 | 第21-25页 |
| 2.1.1.1 Hohenberg-Kohn定理 | 第23-24页 |
| 2.1.1.2 Kohn-Sham方程 | 第24-25页 |
| 2.1.2 交换相关能的分类 | 第25页 |
| 2.1.3 DFT+D | 第25-26页 |
| 2.2 从头计算(Abinito)方法理论 | 第26-27页 |
| 2.2.1 从头计算方法的误差 | 第27页 |
| 2.3 软件简介 | 第27-29页 |
| 2.3.1 Materials Studio | 第27页 |
| 2.3.2 VASP | 第27-29页 |
| 第三章 HF在α-Al_2O_3(0001)表面吸附与反应的密度泛函理论研究 | 第29-41页 |
| 3.1 模型与计算方法 | 第30-32页 |
| 3.2 结果与讨论 | 第32-39页 |
| 3.2.1 模型可靠性的验证 | 第32页 |
| 3.2.2 HF在α-Al_2O_3(0001)表面的吸附 | 第32-35页 |
| 3.2.3 HF在α-Al_2O_3(0001)表面的反应 | 第35页 |
| 3.2.4 H_2O和HF在α-Al_2O_3(0001)表面的共吸附 | 第35-36页 |
| 3.2.5 电子结构分析 | 第36-39页 |
| 3.2.5.1 电子态密度 | 第36-38页 |
| 3.2.5.2 差分电荷密度 | 第38-39页 |
| 3.3 结论 | 第39-41页 |
| 第四章 氧化铝氟化过程的密度泛函理论研究 | 第41-49页 |
| 4.1 模型和方法 | 第42-43页 |
| 4.2 结果和讨论 | 第43-48页 |
| 4.2.1 α-Al_2O_3的氟化作用 | 第43-44页 |
| 4.2.2 X射线粉末衍射(XRD) | 第44-45页 |
| 4.2.3 HF在(AlF_3)_6/(Al_2O_3)_5模型吸附 | 第45-46页 |
| 4.2.4 H_2O在(AlF3)_6/(Al_2O_3)_5模型脱附 | 第46-48页 |
| 4.3 结论 | 第48-49页 |
| 第五章 CCl_2F_2(CFC-12)和CH_2Cl_2在α-AlF_3(0001)表面的催化氟化过程研究 | 第49-57页 |
| 5.1 计算方法与结构模型 | 第50-51页 |
| 5.2 结果与讨论 | 第51-55页 |
| 5.2.1 CCl_2F_2在α-AlF_3(0001)不同终端表面的吸附 | 第51-53页 |
| 5.2.2 CH_2Cl_2在α-AlF_3(0001)不同终端表面的吸附 | 第53-55页 |
| 5.3 结论 | 第55-57页 |
| 参考文献 | 第57-71页 |
| 攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第71-73页 |
| 致谢 | 第73-75页 |
