| 摘要 | 第3-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 1 绪论 | 第9-17页 |
| 1.1 微弧氧化技术 | 第9-10页 |
| 1.2 微弧氧化电解液研究 | 第10-14页 |
| 1.2.1 微弧氧化电解液添加剂研究现状 | 第10-13页 |
| 1.2.2 微弧氧化电解液失效研究现状 | 第13-14页 |
| 1.3 课题研究目的及意义 | 第14-15页 |
| 1.4 课题研究方案及技术路线 | 第15-17页 |
| 2 实验设备及研究方法 | 第17-25页 |
| 2.1 实验材料与设备 | 第17-18页 |
| 2.1.1 实验材料 | 第17页 |
| 2.1.2 电解液配制 | 第17-18页 |
| 2.1.3 实验参数 | 第18页 |
| 2.1.4 实验设备 | 第18页 |
| 2.2 检测方法 | 第18-25页 |
| 2.2.1 稳定氧化时间的测定 | 第18-19页 |
| 2.2.2 电解液离子浓度的检测方法 | 第19-22页 |
| 2.2.3 电解液沉淀物分析方法 | 第22页 |
| 2.2.4 陶瓷层性能检测 | 第22-25页 |
| 3 添加剂对微弧氧化行为的影响 | 第25-43页 |
| 3.1 丙三醇浓度对微弧氧化行为的影响 | 第25-29页 |
| 3.1.1 丙三醇浓度对U-t关系的影响 | 第25-27页 |
| 3.1.2 丙三醇浓度对稳定氧化时间的影响 | 第27-28页 |
| 3.1.3 丙三醇浓度对膜厚的影响 | 第28-29页 |
| 3.2 EDTA-2Na浓度对微弧氧化行为的影响 | 第29-32页 |
| 3.2.1 EDTA-2Na浓度对U-t关系的影响 | 第29-30页 |
| 3.2.2 EDTA-2Na浓度对稳定氧化时间的影响 | 第30-31页 |
| 3.2.3 EDTA-2Na浓度对膜厚的影响 | 第31-32页 |
| 3.3 柠檬酸钠浓度对微弧氧化行为的影响 | 第32-36页 |
| 3.3.1 柠檬酸钠浓度对U-t关系的影响 | 第32-34页 |
| 3.3.2 柠檬酸钠浓度对稳定氧化时间的影响 | 第34-35页 |
| 3.3.3 柠檬酸钠浓度对膜厚的影响 | 第35-36页 |
| 3.4 对比分析 | 第36-42页 |
| 3.4.1 添加剂种类对电导率的影响 | 第36-37页 |
| 3.4.2 添加剂种类对稳定氧化时间的影响 | 第37页 |
| 3.4.3 添加剂种类对膜厚的影响 | 第37-38页 |
| 3.4.4 添加剂种类对陶瓷层相结构的影响 | 第38-39页 |
| 3.4.5 添加剂种类对陶瓷层表面化学成分的影响 | 第39-40页 |
| 3.4.6 添加剂种类对陶瓷层表面显微形貌的影响 | 第40-41页 |
| 3.4.7 添加剂种类对陶瓷层耐蚀性的影响 | 第41-42页 |
| 3.5 本章小结 | 第42-43页 |
| 4 镁合金微弧氧化电解液失效行为 | 第43-61页 |
| 4.1 电解液处理面积对微弧氧化参数的影响 | 第43-44页 |
| 4.1.1 电解液处理面积对U-t关系的影响 | 第43-44页 |
| 4.1.2 电解液处理面积对起弧电压及终止电压的影响 | 第44页 |
| 4.2 电解液失效对陶瓷层结构及性能的影响 | 第44-49页 |
| 4.2.1 电解液失效对陶瓷层厚度的影响 | 第44-45页 |
| 4.2.2 电解液失效对陶瓷层表面化学成分的影响 | 第45-46页 |
| 4.2.3 电解液失效对陶瓷层物相的影响 | 第46-47页 |
| 4.2.4 电解液失效对陶瓷层表面形貌的影响 | 第47-48页 |
| 4.2.5 电解液失效对陶瓷层耐蚀性的影响 | 第48-49页 |
| 4.3 电解液处理面积对电解液的影响 | 第49-58页 |
| 4.3.1 电解液处理面积对电解液宏观特征的影响 | 第49-51页 |
| 4.3.2 电解液处理面积对电导率的影响 | 第51页 |
| 4.3.3 电解液处理面积对氢氧根离子浓度的影响 | 第51-52页 |
| 4.3.4 电解液处理面积对硅酸根离子浓度的影响 | 第52-53页 |
| 4.3.5 电解液处理面积对氟离子浓度的影响 | 第53-54页 |
| 4.3.6 电解液沉淀物分析 | 第54-58页 |
| 4.4 电解液失效分析 | 第58页 |
| 4.5 电解液优化初探 | 第58-60页 |
| 4.6 本章小结 | 第60-61页 |
| 5 结论 | 第61-63页 |
| 致谢 | 第63-65页 |
| 参考文献 | 第65-69页 |
