| 中文摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第10-33页 |
| 1.1 引言 | 第10-11页 |
| 1.2 半导体微纳单晶的研究现状 | 第11-25页 |
| 1.2.1 晶体的成核与生长 | 第11-15页 |
| 1.2.2 半导体微纳单晶的制备 | 第15-24页 |
| 1.2.3 半导体微纳单晶的应用 | 第24-25页 |
| 1.3 钽氧化物材料的研究现状 | 第25-31页 |
| 1.4 论文的研究目的与意义 | 第31-33页 |
| 第2章 钽氧氯立方微晶的可控制备与光催化产氢 | 第33-53页 |
| 2.1 引言 | 第33-34页 |
| 2.2 实验部分 | 第34-36页 |
| 2.2.1 化学试剂 | 第34页 |
| 2.2.2 钽氧氯立方微晶的制备 | 第34页 |
| 2.2.3 钽氧氯立方微晶的表征方法 | 第34-35页 |
| 2.2.4 钽氧氯立方微晶的性能测试 | 第35-36页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第36-51页 |
| 2.3.1 钽氧氯立方微晶的结构和组成表征 | 第36-39页 |
| 2.3.2 钽氧氯立方微晶的晶体结构 | 第39-41页 |
| 2.3.3 钽氧氯立方微晶的形成机理 | 第41-50页 |
| 2.3.4 钽氧氯立方微晶的光催化制氢性能 | 第50-51页 |
| 2.4 小结 | 第51-53页 |
| 第3章 高比例曝露{00 1}的氧化钽立方微晶的制备与光催化产氢 | 第53-67页 |
| 3.1 引言 | 第53-54页 |
| 3.2 实验部分 | 第54-57页 |
| 3.2.1 化学试剂 | 第54页 |
| 3.2.2 氧化钽立方微晶的制备 | 第54页 |
| 3.2.3 氧化钽立方微晶的表征方法 | 第54-55页 |
| 3.2.4 氧化钽立方微晶的光催化性能 | 第55页 |
| 3.2.5 氧化钽晶面能的计算方法 | 第55-57页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第57-66页 |
| 3.3.1 氧化钽的晶面能计算 | 第57-60页 |
| 3.3.2 氧化钽立方微晶的表征 | 第60-62页 |
| 3.3.3 氧化钽立方微晶的形成机理 | 第62-65页 |
| 3.3.4 氧化钽立方微晶的光催化性能 | 第65-66页 |
| 3.4 小结 | 第66-67页 |
| 第4章 总结与展望 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-79页 |
| 研究生期间发表的学术成果 | 第79-80页 |
| 致谢 | 第80页 |