晶态介孔硅球的制备及其光催化性能的研究
| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第12-26页 |
| 1.1 引言 | 第12页 |
| 1.2 光催化的基本理论 | 第12-14页 |
| 1.2.1 光解水的原理 | 第12-14页 |
| 1.2.2 提升光解水性能的方法 | 第14页 |
| 1.3 光解水体系 | 第14-16页 |
| 1.3.1 完全光解水系统 | 第14-15页 |
| 1.3.2 牺牲剂光解水系统 | 第15页 |
| 1.3.3 电子中介体系 | 第15页 |
| 1.3.4 助催化剂体系 | 第15-16页 |
| 1.4 半导体光催化剂的分类 | 第16-17页 |
| 1.4.1 金属氧化物半导体 | 第16页 |
| 1.4.2 金属硫化物半导体 | 第16-17页 |
| 1.4.3 有机半导体材料 | 第17页 |
| 1.5 硅催化剂应用现状 | 第17-19页 |
| 1.5.1 硅的优势及问题 | 第17-18页 |
| 1.5.2 多孔硅的制备方法 | 第18-19页 |
| 1.6 本文研究的内容及创新 | 第19-20页 |
| 1.7 参考文献 | 第20-26页 |
| 第二章 晶态介孔硅球的制备及表征 | 第26-40页 |
| 2.1 引言 | 第26页 |
| 2.2 实验部分 | 第26-28页 |
| 2.2.1 实验试剂与仪器 | 第26-27页 |
| 2.2.2 实验装置 | 第27-28页 |
| 2.3 晶态介孔硅球的制备 | 第28-30页 |
| 2.3.1 介孔二氧化硅球的制备 | 第28-29页 |
| 2.3.2 介孔二氧化硅球的还原 | 第29-30页 |
| 2.4 介孔二氧化硅球与晶态介孔硅球的表征 | 第30-31页 |
| 2.5 结果与分析 | 第31-38页 |
| 2.5.1 形貌与物相表征 | 第31-35页 |
| 2.5.2 比表面积与孔分布 | 第35-36页 |
| 2.5.3 紫外可见漫反射光谱及带隙 | 第36-38页 |
| 2.6 本章小结 | 第38页 |
| 2.7 参考文献 | 第38-40页 |
| 第三章 晶态介孔硅球的光解水性能 | 第40-54页 |
| 3.1 引言 | 第40-41页 |
| 3.2 实验试剂与仪器 | 第41页 |
| 3.3 实验与分析 | 第41-46页 |
| 3.3.1 实验步骤与测试方法 | 第41-42页 |
| 3.3.2 光解水产氢结果分析 | 第42-44页 |
| 3.3.3 光电化学测试及分析 | 第44-46页 |
| 3.4 应用前景探究 | 第46-51页 |
| 3.4.1 稳定性测试 | 第46-49页 |
| 3.4.2 表观量子产率 | 第49-50页 |
| 3.4.3 太阳光催化产氢性能 | 第50-51页 |
| 3.5 本章小结 | 第51-52页 |
| 3.6 参考文献 | 第52-54页 |
| 第四章 晶态介孔硅球孔结构调控及其对性能的影响 | 第54-64页 |
| 4.1 引言 | 第54页 |
| 4.2 实验部分 | 第54-55页 |
| 4.2.1 实验试剂与仪器 | 第54-55页 |
| 4.2.2 实验步骤 | 第55页 |
| 4.3 表征结果与分析 | 第55-60页 |
| 4.3.1 形貌与物相表征 | 第55-58页 |
| 4.3.2 比表面积与孔分布 | 第58-59页 |
| 4.3.3 紫外可见漫反射光谱及带隙 | 第59-60页 |
| 4.3.4 光电化学测试及分析 | 第60页 |
| 4.4 光解水产氢性能对比 | 第60-61页 |
| 4.5 本章小结 | 第61页 |
| 4.6 参考文献 | 第61-64页 |
| 第五章 结论 | 第64-66页 |
| 致谢 | 第66-68页 |
| 在读期间发表的学术论文与取得的研究成果 | 第68页 |
