| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第一章 引言 | 第15-29页 |
| 1.1 研究背景 | 第15-16页 |
| 1.2 国内外相关技术研究进展 | 第16-27页 |
| 1.2.1 纳米材料 | 第16-18页 |
| 1.2.2 磁性纳米材料 | 第18-22页 |
| 1.2.3 分子印迹技术 | 第22-27页 |
| 1.3 论文研究意义与主要内容 | 第27-29页 |
| 第二章 莠去津磁性分子印迹材料制备及结果分析 | 第29-41页 |
| 2.1 试验材料和方法 | 第29-33页 |
| 2.1.1 试验材料 | 第29页 |
| 2.1.2 制备方法 | 第29-33页 |
| 2.2 结果与讨论 | 第33-40页 |
| 2.2.1 磁性Fe_3O_4纳米粒子的制备 | 第33-35页 |
| 2.2.2 Fe_3O_4@SiO_2的制备 | 第35-37页 |
| 2.2.3 Fe_3O_4@SiO_2@KH570的制备 | 第37-38页 |
| 2.2.4 莠去津磁性分子印迹材料（At–MMIPs）的制备 | 第38-40页 |
| 2.3 本章小结 | 第40-41页 |
| 第三章 莠去津磁性分子印迹材料吸附性能研究 | 第41-55页 |
| 3.1 试验材料和仪器 | 第41页 |
| 3.1.1 试验材料 | 第41页 |
| 3.1.2 主要实验仪器 | 第41页 |
| 3.2 莠去津标准曲线绘制及吸附量、吸附效率的计算 | 第41-42页 |
| 3.3 At-MMIPs吸附性能实验 | 第42-44页 |
| 3.3.1 吸附动力学 | 第42页 |
| 3.3.2 吸附等温线 | 第42页 |
| 3.3.3 吸附位点Scatchard方程分析 | 第42-43页 |
| 3.3.4 At–MMIPs特异性识别吸附研究 | 第43页 |
| 3.3.5 吸附效果影响因素研究 | 第43-44页 |
| 3.3.6 吸附效果影响因素正交试验 | 第44页 |
| 3.4 结果分析 | 第44-53页 |
| 3.4.1 吸附动力学 | 第44-45页 |
| 3.4.2 吸附等温线 | 第45-47页 |
| 3.4.3 At-MMIPS吸附位点Scatchard方程分析 | 第47-48页 |
| 3.4.4 At–MMIPs特异性识别吸附研究 | 第48-49页 |
| 3.4.5 吸附效果影响因素分析 | 第49-53页 |
| 3.4.6 吸附效果影响因素正交试验 | 第53页 |
| 3.5 本章小结 | 第53-55页 |
| 第四章 莠去津磁性分子印迹材料测定水中痕量莠去津应用分析 | 第55-59页 |
| 4.1 前言 | 第55-56页 |
| 4.2 试验过程 | 第56-57页 |
| 4.2.1 线性范围和检测限定义 | 第56页 |
| 4.2.2 实验材料和主要设备 | 第56页 |
| 4.2.3 实验方法 | 第56-57页 |
| 4.2.3.1 GB/T5750.9-2006 液液萃取法 | 第56-57页 |
| 4.2.3.2 莠去津磁性分子印迹材料固相萃取法 | 第57页 |
| 4.3 结果讨论 | 第57-59页 |
| 第五章 结论与展望 | 第59-61页 |
| 5.1 结论 | 第59页 |
| 5.2 展望 | 第59-61页 |
| 参考文献 | 第61-65页 |
| 致谢 | 第65-66页 |
| 作者简介及读研期间主要科研成果 | 第66页 |
