变密度盘的镀制工艺研究
| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6页 |
| 1 绪论 | 第10-14页 |
| 1.1 滤光膜的基本种类 | 第10页 |
| 1.2 渐变滤光膜的发展与现状 | 第10-12页 |
| 1.3 选题背景、研究内容及意义 | 第12-13页 |
| 1.4 本论文的主要研究内容及章节安排 | 第13-14页 |
| 2 薄膜的基本原理 | 第14-22页 |
| 2.1 光的电磁理论基础 | 第14-18页 |
| 2.1.1 光波与介质 | 第14-15页 |
| 2.1.2 麦克斯韦方程 | 第15-17页 |
| 2.1.3 菲涅尔公式 | 第17-18页 |
| 2.2 光学薄膜的设计基础 | 第18-20页 |
| 2.2.1 介质薄膜系统的计算 | 第18页 |
| 2.2.2 吸收薄膜系统的计算 | 第18-20页 |
| 2.3 滤光片 | 第20-22页 |
| 3 方案论证 | 第22-31页 |
| 3.1 变密度盘的基本原理 | 第22-24页 |
| 3.1.1 技术要求 | 第22-23页 |
| 3.1.2 基本原理 | 第23-24页 |
| 3.2 确定变密度盘的膜料及镀膜方式 | 第24-31页 |
| 3.2.1 确定膜料及膜系 | 第24-30页 |
| 3.2.2 确定镀膜方式 | 第30-31页 |
| 4 脉冲多弧离子镀 | 第31-34页 |
| 4.1 多弧离子镀的发展与现状 | 第31-32页 |
| 4.2 多弧离子镀的工作原理 | 第32-33页 |
| 4.3 多弧离子镀的特点 | 第33-34页 |
| 5 镀制设备 | 第34-45页 |
| 5.1 DMD-450真空镀膜机 | 第34-35页 |
| 5.2 渐变膜遮板的设计和制作 | 第35-39页 |
| 5.3 电机正、反转运动 | 第39-40页 |
| 5.4 安装脉冲多弧离子镀装置 | 第40-45页 |
| 5.4.1 脉冲多弧离子镀的结构设计 | 第40-42页 |
| 5.4.2 脉冲多弧离子源电源的设计 | 第42-45页 |
| 6 变密度盘渐变膜镀制工艺 | 第45-49页 |
| 6.1 主回路电压、电容对多弧离子源的影响 | 第45页 |
| 6.2 起弧回路电压和电容对脉冲多弧离子源的影响 | 第45页 |
| 6.3 脉冲电源的频率对渐变膜的影响 | 第45-46页 |
| 6.4 工件夹的旋转周期对渐变膜的影响 | 第46页 |
| 6.5 真空度对渐变膜的影响 | 第46-47页 |
| 6.6 膜层厚度实验和镀膜的重复性 | 第47-49页 |
| 7 薄膜性能测试 | 第49-59页 |
| 7.1 镍铬铁合金渐变膜的光学特性测量 | 第49-54页 |
| 7.1.1 镍铬铁合金渐变膜的检测仪器 | 第49-50页 |
| 7.1.2 镍铬铁合金渐变膜的光学特性曲线 | 第50-51页 |
| 7.1.3 膜层的减反射膜特性 | 第51-52页 |
| 7.1.4 膜层的中性特性 | 第52页 |
| 7.1.5 合金膜最厚部分的反射曲线 | 第52-53页 |
| 7.1.6 同一半径上测得的光谱曲线 | 第53-54页 |
| 7.2 膜层的牢固度研究及膜层性能测试 | 第54-55页 |
| 7.2.1 基片表面清洁对牢固度的影响 | 第54页 |
| 7.2.2 基片温度对牢固度的影响 | 第54-55页 |
| 7.2.3 膜层与基片附着力的测试 | 第55页 |
| 7.2.4 基片的抗磨强度 | 第55页 |
| 7.3 膜层表面质量 | 第55页 |
| 7.4 镀膜后零件对环境适应性的测试 | 第55-59页 |
| 7.4.1 恒定温热 | 第55-56页 |
| 7.4.2 低温 | 第56页 |
| 7.4.3 浸泡 | 第56页 |
| 7.4.4 高低温试验后光谱性能 | 第56-58页 |
| 7.4.5 高低温试验后中性性能 | 第58-59页 |
| 8 结论 | 第59-60页 |
| 致谢 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-63页 |
