中文摘要 | 第4-6页 |
abstract | 第6-7页 |
第一章 绪论 | 第11-25页 |
1.1 引言 | 第11页 |
1.2 近红外荧光染料的研究进展 | 第11-24页 |
1.2.1 罗丹明类近红外荧光染料 | 第12-14页 |
1.2.2 BODIPY类近红外荧光染料 | 第14-16页 |
1.2.3 萘酰亚胺类近红外荧光染料 | 第16-17页 |
1.2.4 花菁类和半花菁类近红外荧光染料 | 第17-21页 |
1.2.5 其他近红外荧光染料 | 第21-23页 |
1.2.6 文献小结 | 第23-24页 |
1.3 本论文的研究意义和主要研究内容 | 第24-25页 |
1.3.1 研究意义 | 第24页 |
1.3.2 主要内容 | 第24-25页 |
第二章 基于苯并噁嗪的近红外“OFF-ON”型与比率型pH荧光染料 | 第25-42页 |
2.1 引言 | 第25页 |
2.2 染料分子设计 | 第25-26页 |
2.3 实验仪器与试剂 | 第26-27页 |
2.3.1 实验仪器 | 第26页 |
2.3.2 主要试剂 | 第26-27页 |
2.4 合成与结构表征 | 第27-29页 |
2.4.1 目标分子合成路线 | 第27页 |
2.4.2 合成步骤及表征 | 第27-29页 |
2.5 染料分子性能测试 | 第29-31页 |
2.5.1 测试溶液的配制 | 第29-30页 |
2.5.2 氢离子的滴定实验 | 第30页 |
2.5.3 选择性和竞争性实验 | 第30页 |
2.5.4 摩尔消光系数测定 | 第30页 |
2.5.5 荧光量子产率测定 | 第30-31页 |
2.5.6 细胞的培养及成像实验 | 第31页 |
2.6 实验结果与讨论 | 第31-40页 |
2.6.1 染料对氢离子的紫外和荧光滴定实验 | 第31-37页 |
2.6.2 选择性与可逆性实验 | 第37-38页 |
2.6.3 细胞实验 | 第38-40页 |
2.7 本章小结 | 第40-42页 |
第三章 一种新颖的检测硫化氢的近红外花菁类荧光染料 | 第42-53页 |
3.1 引言 | 第42页 |
3.2 染料分子设计 | 第42-43页 |
3.3 实验仪器与试剂 | 第43-44页 |
3.3.1 实验仪器 | 第43页 |
3.3.2 主要试剂 | 第43-44页 |
3.4 合成与结构表征 | 第44-45页 |
3.4.1 目标分子合成路线 | 第44页 |
3.4.2 合成步骤与表征 | 第44-45页 |
3.5 染料分子性能测试 | 第45-46页 |
3.5.1 测试溶液的配制 | 第45页 |
3.5.2 选择性和竞争性实验 | 第45-46页 |
3.5.3 摩尔消光系数测定 | 第46页 |
3.5.4 荧光量子产率测定 | 第46页 |
3.5.5 检测限的测定 | 第46页 |
3.6 实验结果与讨论 | 第46-52页 |
3.6.1 染料的光稳定性测试 | 第46-47页 |
3.6.2 染料的H_2S响应 | 第47-50页 |
3.6.3 机理验证 | 第50-51页 |
3.6.4 染料的离子选择性 | 第51-52页 |
3.7 本章小结 | 第52-53页 |
第四章 基于苯并吡喃类近红外pH荧光染料的设计合成及其光学性能研究 | 第53-74页 |
4.1 引言 | 第53页 |
4.2 染料分子设计 | 第53-54页 |
4.3 实验仪器与试剂 | 第54-55页 |
4.3.1 实验仪器 | 第54页 |
4.3.2 主要试剂 | 第54-55页 |
4.4 合成及结构表征 | 第55-59页 |
4.4.1 目标分子合成路线 | 第55-56页 |
4.4.2 合成步骤及表征 | 第56-59页 |
4.5 染料分子性能测试 | 第59-61页 |
4.5.1 测试溶液的配制 | 第59页 |
4.5.2 氢离子的滴定实验 | 第59-60页 |
4.5.3 选择性和竞争性实验 | 第60页 |
4.5.4 摩尔消光系数测定 | 第60页 |
4.5.5 荧光量子产率测定 | 第60页 |
4.5.6 理论计算 | 第60-61页 |
4.6 实验结果与讨论 | 第61-73页 |
4.6.1 染料对氢离子的紫外和荧光滴定实验 | 第61-67页 |
4.6.2 机理解释 | 第67-71页 |
4.6.3 选择性与可逆性实验 | 第71-73页 |
4.7 本章小结 | 第73-74页 |
第五章 结论与展望 | 第74-76页 |
5.1 结论 | 第74-75页 |
5.2 展望 | 第75-76页 |
参考文献 | 第76-88页 |
附录 | 第88-107页 |
硕士期间发表论文 | 第107-108页 |
致谢 | 第108-109页 |