| 摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 第一章 绪论 | 第8-18页 |
| 1.1 MEMS驱动器简介 | 第8-10页 |
| 1.2 拓扑优化的研究现状 | 第10-16页 |
| 1.3 本课题的研究意义以及主要研究内容 | 第16-18页 |
| 1.3.1 本课题的研究意义 | 第16-17页 |
| 1.3.2 本课题的研究内容 | 第17-18页 |
| 第二章 压电式MEMS驱动器的仿真分析与尺寸优化 | 第18-27页 |
| 2.1 压电式面内MEMS驱动器的工作原理 | 第18-19页 |
| 2.2 压电式面内MEMS驱动器的压电分析 | 第19-22页 |
| 2.3 压电式面内MEMS驱动器的静力分析 | 第22-23页 |
| 2.4 压电式面内MEMS驱动器的尺寸优化 | 第23-26页 |
| 2.4.1 微驱动器尺寸优化数学模型 | 第23-24页 |
| 2.4.2 多变量敏感度分析 | 第24-25页 |
| 2.4.3 优化及结果分析 | 第25-26页 |
| 2.5 本章小结 | 第26-27页 |
| 第三章 压电式面内MEMS驱动器结构的单目标拓扑优化 | 第27-37页 |
| 3.1 压电式面内MEMS驱动器原结构的拓扑优化设计 | 第27-31页 |
| 3.2 改变设计域的压电式面内MEMS驱动器的拓扑优化设计 | 第31-36页 |
| 3.2.1 输出y向位移最大化的拓扑优化设计 | 第32-35页 |
| 3.2.2 整体刚度最大化的拓扑优化设计 | 第35-36页 |
| 3.3 本章小结 | 第36-37页 |
| 第四章 压电式面内MEMS驱动器的多目标拓扑优化 | 第37-44页 |
| 4.1 输出y向位移与整体结构柔度组合的多目标拓扑优化设计 | 第37-40页 |
| 4.2 输出y向位移与输出力组合的多目标拓扑优化设计 | 第40-41页 |
| 4.3 考虑输出y向位移和z向位移的多目标拓扑优化设计 | 第41-43页 |
| 4.4 本章小结 | 第43-44页 |
| 第五章 关键制作工艺研究 | 第44-50页 |
| 5.1 压电式面内MEMS驱动器工艺流程设计 | 第44-45页 |
| 5.2 压电式面内MEMS驱动器制作工艺 | 第45-49页 |
| 5.2.1 光刻工艺研究 | 第45-46页 |
| 5.2.2 PZT湿法刻蚀技术研究 | 第46-47页 |
| 5.2.3 KOH深硅刻蚀研究 | 第47-49页 |
| 5.3 本章小结 | 第49-50页 |
| 第六章 总结与展望 | 第50-52页 |
| 6.1 总结 | 第50-51页 |
| 6.2 展望 | 第51-52页 |
| 参考文献 | 第52-56页 |
| 在学期间的研究成果 | 第56-57页 |
| 致谢 | 第57页 |
