| 摘要 | 第3-5页 |
| abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第10-20页 |
| 1.1 研究背景 | 第10页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第10-16页 |
| 1.2.1 国内外工业废水处理现状 | 第10-12页 |
| 1.2.2 磁性介孔氧化硅材料简介 | 第12-13页 |
| 1.2.3 二氧化钛光催化材料简介 | 第13-16页 |
| 1.3 选题的意义和研究内容 | 第16-20页 |
| 1.3.1 选题的意义 | 第16-17页 |
| 1.3.2 研究内容 | 第17-20页 |
| 第二章 实验材料及仪器 | 第20-24页 |
| 2.1 实验药品及设备 | 第20-21页 |
| 2.2 样品的分析表征方法 | 第21-24页 |
| 2.2.1 样品物相结构分析 | 第21-22页 |
| 2.2.2 样品形貌分析 | 第22页 |
| 2.2.3 样品成分分析 | 第22页 |
| 2.2.4 样品磁性性能分析 | 第22-24页 |
| 第三章 磁性介孔氧化硅复合材料制备 | 第24-34页 |
| 3.1 Fe_3O_4的制备 | 第24-25页 |
| 3.2 Fe_3O_4@SiO_2@mSiO_2磁性复合微球的制备 | 第25-27页 |
| 3.3 Fe_3O_4@SiO_2@mSiO_2的结构表征分析 | 第27-33页 |
| 3.3.1 Fe_3O_4@SiO_2@mSiO_2的XRD分析 | 第27-28页 |
| 3.3.2 Fe_3O_4@SiO_2@mSiO_2的形貌分析 | 第28-32页 |
| 3.3.3 Fe_3O_4@SiO_2@mSiO_2的N_2吸附-脱附分析 | 第32-33页 |
| 3.4 本章小结 | 第33-34页 |
| 第四章 三元体系光催化剂制备及其光降解亚甲基蓝性能研究 | 第34-52页 |
| 4.1 三元体系光催化剂的制备 | 第35-36页 |
| 4.2 三元体系光催化剂光催化降解亚甲基蓝实验 | 第36-37页 |
| 4.2.1 亚甲基蓝标准曲线绘制 | 第36-37页 |
| 4.3 表征结果分析 | 第37-43页 |
| 4.3.1 XRD表征结果分析 | 第37-38页 |
| 4.3.2 VSM表征结果分析 | 第38-39页 |
| 4.3.3 XPS表征结果分析 | 第39-41页 |
| 4.3.4 Raman表征结果分析 | 第41-42页 |
| 4.3.5 N_2吸附-脱附表征结果分析 | 第42-43页 |
| 4.4 光催化亚甲基蓝结果分析 | 第43-49页 |
| 4.4.1 TiO_2负载量对光催化性能的影响 | 第43-46页 |
| 4.4.2 反应温度对光催化性能的影响 | 第46-47页 |
| 4.4.3 溶液pH对光催化性能的影响 | 第47-48页 |
| 4.4.4 光催化剂的重复利用性 | 第48页 |
| 4.4.5 光催化机理探讨 | 第48-49页 |
| 4.5 本章小结 | 第49-52页 |
| 第五章 氨基化磁性介孔氧化硅的制备及吸附Cr(Ⅵ)性能研究 | 第52-68页 |
| 5.1 氨基修饰Fe_3O_4@SiO_2@mSiO_2磁性复合材料制备 | 第52-53页 |
| 5.2 氨基修饰Fe_3O_4@SiO_2@mSiO_2磁性复合材料吸附Cr(Ⅵ) | 第53-55页 |
| 5.2.1 Cr(Ⅵ)浓度测定方法 | 第53-55页 |
| 5.3 表征结果分析 | 第55-60页 |
| 5.3.1 XRD表征结果分析 | 第55-56页 |
| 5.3.2 N_2吸脱-脱附分析 | 第56-57页 |
| 5.3.3 红外光谱(FT-IR)分析 | 第57-58页 |
| 5.3.4 形貌分析 | 第58-59页 |
| 5.3.5 VSM表征结果分析 | 第59-60页 |
| 5.4 吸附Cr(Ⅵ)结果分析 | 第60-66页 |
| 5.4.1 吸附性能对比 | 第60-61页 |
| 5.4.2 吸附动力学研究 | 第61-62页 |
| 5.4.3 吸附热力学实验 | 第62-65页 |
| 5.4.4 吸附机理分析 | 第65-66页 |
| 5.5 本章小结 | 第66-68页 |
| 第六章 结论 | 第68-70页 |
| 参考文献 | 第70-78页 |
| 附录 攻读硕士期间研究成果 | 第78-80页 |
| 致谢 | 第80页 |
