| 摘要 | 第7-8页 |
| ABSTRACT | 第8-9页 |
| 第一章 绪论 | 第15-27页 |
| 1.1 引言 | 第15页 |
| 1.2 磁电复合材料的研究历史及现状 | 第15-16页 |
| 1.3 磁电复合薄膜材料 | 第16-22页 |
| 1.3.1 磁电复合薄膜材料的分类 | 第16-18页 |
| 1.3.2 铁电性及铁电薄膜材料 | 第18-20页 |
| 1.3.3 铁磁性及铁磁薄膜材料 | 第20-22页 |
| 1.4 磁电耦合效应的理论基础 | 第22-23页 |
| 1.5 磁电复合薄膜的制备方法 | 第23-25页 |
| 1.6 磁电复合材料存在的问题以及未来展望 | 第25-26页 |
| 1.7 本文研究意义以及内容 | 第26-27页 |
| 第二章 实验材料、仪器以及表征方法 | 第27-32页 |
| 2.1 实验材料以及仪器 | 第27-28页 |
| 2.2 实验的主要表征方法 | 第28-32页 |
| 第三章 Sr和Zr掺杂的BSTZ薄膜的制备与表征 | 第32-43页 |
| 3.1 引言 | 第32页 |
| 3.2 BSTZ薄膜Sol-gel法制备工艺 | 第32-33页 |
| 3.2.1 BSTZ溶胶Sol-gel法制备过程 | 第32页 |
| 3.2.2 BSTZ粉体及薄膜制备过程 | 第32-33页 |
| 3.3 实验结果与分析 | 第33-41页 |
| 3.3.1 BTO前驱体粉体DSC-TG分析 | 第33-34页 |
| 3.3.2 BTO粉体在不同退火温度下XRD分析 | 第34页 |
| 3.3.3 BSTZ粉体XRD分析 | 第34-35页 |
| 3.3.4 BSTZ薄膜XRD分析 | 第35-36页 |
| 3.3.5 BSTZ薄膜的原子力分析 | 第36-37页 |
| 3.3.6 BSTZ薄膜的表面形貌分析 | 第37-38页 |
| 3.3.7 BSTZ薄膜的断面形貌分析 | 第38-39页 |
| 3.3.8 BSTZ薄膜铁电性能分析 | 第39-41页 |
| 3.3.9 BSTZ薄膜介电性能分析 | 第41页 |
| 3.4 本章小结 | 第41-43页 |
| 第四章 Zn掺杂的NZFO薄膜的制备与表征 | 第43-53页 |
| 4.1 引言 | 第43页 |
| 4.2 NZFO薄膜Sol-gel法制备工艺 | 第43-44页 |
| 4.2.1 NZFO溶胶Sol-gel法制备过程 | 第43页 |
| 4.2.2 NZFO粉体及薄膜制备过程 | 第43-44页 |
| 4.3 实验结果与分析 | 第44-52页 |
| 4.3.1 NFO前驱体粉体DSC-TG分析 | 第44-45页 |
| 4.3.2 NFO粉体不同退火温度XRD分析 | 第45页 |
| 4.3.3 不同Zn含量掺杂NZFO粉体XRD分析 | 第45-46页 |
| 4.3.4 NZFO薄膜XRD分析 | 第46-47页 |
| 4.3.5 NZFO薄膜的原子力分析 | 第47-48页 |
| 4.3.6 NZFO薄膜的表面形貌分析 | 第48-49页 |
| 4.3.7 NZFO薄膜的断面形貌分析 | 第49-50页 |
| 4.3.8 NZFO薄膜铁磁性能分析 | 第50-52页 |
| 4.4 本章小结 | 第52-53页 |
| 第五章 BSTZ/NZFO磁电复合薄膜制备和研究 | 第53-61页 |
| 5.1 引言 | 第53页 |
| 5.2 磁电复合薄膜的sol-gel的制备工艺 | 第53-54页 |
| 5.2.1 磁电复合薄膜Sol-gel制备 | 第53页 |
| 5.2.2 磁电复合薄膜的制备 | 第53-54页 |
| 5.3 实验结果与分析 | 第54-59页 |
| 5.3.1 不同沉积顺序,磁电复合薄膜XRD的分析 | 第54页 |
| 5.3.2 不同沉积顺序,磁电复合薄膜原子力的分析 | 第54-55页 |
| 5.3.3 不同沉积顺序,磁电复合薄膜微观形貌的分析 | 第55-56页 |
| 5.3.4 不同沉积顺序,磁电复合薄膜铁电性能的分析 | 第56-57页 |
| 5.3.5 不同沉积顺序,磁电复合薄膜铁磁性能的分析 | 第57-58页 |
| 5.3.6 不同沉积顺序,磁电复合薄膜磁电耦合性能的分析 | 第58-59页 |
| 5.4 本章小结 | 第59-61页 |
| 第六章 总结 | 第61-62页 |
| 展望 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-70页 |
| 攻读硕士学位其间发表论文 | 第70页 |
