| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第1章 绪言 | 第12-34页 |
| 1.1 Co基磁性薄膜的应用 | 第12-19页 |
| 1.1.1 Co基软磁薄膜的应用 | 第12-15页 |
| 1.1.2 Co基磁性薄膜垂直磁记录领域的应用 | 第15-17页 |
| 1.1.3 Co基磁性薄膜对膜层的要求 | 第17-19页 |
| 1.2 Co基磁性薄膜的制备 | 第19-24页 |
| 1.2.1 物理方法 | 第19-21页 |
| 1.2.2 化学方法 | 第21-23页 |
| 1.2.3 本论文所选择的膜层制备方法 | 第23-24页 |
| 1.3 强磁场热处理膜层的作用 | 第24-28页 |
| 1.3.1 强磁场热处理对膜层的晶粒生长的影响 | 第24-27页 |
| 1.3.2 强磁场热处理对膜层的磁晶各向异性的影响 | 第27-28页 |
| 1.3.3 强磁场热处理对膜层其他方面的影响 | 第28页 |
| 1.4 本论文研究的目的及意义 | 第28-30页 |
| 参考文献 | 第30-34页 |
| 第2章 实验 | 第34-46页 |
| 2.1 基体的准备 | 第34-35页 |
| 2.1.1 基体的打磨抛光 | 第34页 |
| 2.1.2 子晶层的预沉积 | 第34-35页 |
| 2.2 膜层的电沉积 | 第35-37页 |
| 2.2.1 单金属Co薄膜的电沉积 | 第35-36页 |
| 2.2.2 CoNiP膜层的脉冲电沉积 | 第36-37页 |
| 2.3 膜层的强磁场退火处理 | 第37-38页 |
| 2.4 膜层的表征 | 第38-44页 |
| 2.4.1 表面形貌的观察 | 第38页 |
| 2.4.2 物相结构的检测 | 第38-41页 |
| 2.4.3 力学性能的测试 | 第41-43页 |
| 2.4.4 磁性能的测试 | 第43-44页 |
| 参考文献 | 第44-46页 |
| 第3章 强磁场退火对直流电沉积单金属Co薄膜微观结构的影响 | 第46-54页 |
| 3.1 前言 | 第46页 |
| 3.2 膜层表面形貌观察 | 第46-47页 |
| 3.3 颗粒尺寸和粗糙度测定 | 第47-50页 |
| 3.4 膜层物相结构检测 | 第50-51页 |
| 3.5 本章小结 | 第51-52页 |
| 参考文献 | 第52-54页 |
| 第4章 强磁场退火对单向脉冲电沉积CoNiP薄膜微观结构的影响 | 第54-64页 |
| 4.1 前言 | 第54页 |
| 4.2 膜层表面形貌观察 | 第54-56页 |
| 4.3 膜层的颗粒尺寸和粗糙度 | 第56-59页 |
| 4.4 膜层物相结构检测 | 第59-61页 |
| 4.5 本章小结 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-64页 |
| 第5章 强磁场退火对双向脉冲电沉积CoNiP薄膜的微观结构和性能的影响 | 第64-72页 |
| 5.1 前言 | 第64页 |
| 5.2 膜层表面形貌观察 | 第64-65页 |
| 5.3 膜层物相结构检测 | 第65-67页 |
| 5.4 膜层的力学性能测试 | 第67页 |
| 5.5 膜层的磁性能测试 | 第67-69页 |
| 5.6 本章小结 | 第69-70页 |
| 参考文献 | 第70-72页 |
| 第6章 总结与展望 | 第72-74页 |
| 6.1 主要结论 | 第72-73页 |
| 6.2 结果展望 | 第73-74页 |
| 硕士阶段所取得的研究成果 | 第74-76页 |
| 致谢 | 第76-78页 |
| 个人简历 | 第78页 |
