| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-21页 |
| 1.1 研究背景 | 第10-11页 |
| 1.1.1 C_f/SiC复合材料的发展历程 | 第10页 |
| 1.1.2 C_f/SiC复合材料的应用限制 | 第10-11页 |
| 1.2 C_f/SiC抗高温氧化涂层的研究现状 | 第11-17页 |
| 1.2.1 抗高温氧化涂层的材料种类 | 第12-15页 |
| 1.2.2 超高温双层复相涂层 | 第15-17页 |
| 1.3 超高温陶瓷双层涂层制备方法 | 第17-19页 |
| 1.4 研究意义和研究内容 | 第19-21页 |
| 1.4.1 研究意义 | 第19页 |
| 1.4.2 研究内容 | 第19-21页 |
| 第二章 实验与研究方法 | 第21-28页 |
| 2.1 实验研究流程图 | 第21页 |
| 2.2 实验原料及设备 | 第21-23页 |
| 2.2.1 C_f/C预制体 | 第21页 |
| 2.2.2 制备过程使用试剂及粉末 | 第21-22页 |
| 2.2.4 实验设备 | 第22-23页 |
| 2.3 C_f/SiC复合材料的制备 | 第23页 |
| 2.4 预涂层的制备工艺 | 第23-24页 |
| 2.5 真空反应熔渗工艺 | 第24-25页 |
| 2.6 分析与测试 | 第25-28页 |
| 2.6.1 X射线衍射(XRD)物相分析 | 第25-26页 |
| 2.6.2 扫描电子显微镜(SEM)及能谱(EDS)分析 | 第26页 |
| 2.6.3 抗烧蚀性能分析 | 第26-28页 |
| 第三章 预涂层的制备与分析 | 第28-36页 |
| 3.1 制备预涂层的准备 | 第28-29页 |
| 3.2 预涂层制备 | 第29-31页 |
| 3.3 预涂层组织结构分析 | 第31-35页 |
| 3.3.1 纯石墨体系 | 第31-32页 |
| 3.3.2 石墨+B_4C体系 | 第32-35页 |
| 3.4 小结 | 第35-36页 |
| 第四章 纯石墨体系涂层的组织结构研究 | 第36-49页 |
| 4.1 纯石墨体系SiC过渡层 | 第36-40页 |
| 4.1.1 SiC过渡层的XRD物相分析 | 第36-37页 |
| 4.1.2 石墨添加量对SiC过渡层组织结构的影响 | 第37-38页 |
| 4.1.3 40wt%石墨的SiC涂层的组织结构分析 | 第38-40页 |
| 4.2 纯石墨体系双层涂层 | 第40-47页 |
| 4.2.1 纯石墨体系的双层涂层的物相分析 | 第40-41页 |
| 4.2.2 纯石墨体系,锆含量26.5wt%的双层涂层 | 第41-45页 |
| 4.2.3 纯石墨体系,锆含量50wt%的双层涂层 | 第45-47页 |
| 4.3 小结 | 第47-49页 |
| 第五章 B_4C体系双层涂层的组织结构研究与烧蚀性能分析 | 第49-72页 |
| 5.1 B_4C体系,26.5wt%锆含量的双层涂层 | 第49-60页 |
| 5.1.1 3B2Z、5B2Z和7B2Z涂层的物相分析 | 第49-50页 |
| 5.1.2 30wt%B_4C,26.5wt%锆含量的涂层 | 第50-56页 |
| 5.1.3 50wt%B_4C,26.5wt%锆含量的涂层 | 第56-59页 |
| 5.1.4 70wt% B_4C,26.5wt%锆含量的涂层 | 第59-60页 |
| 5.2 B_4C体系,50wt%锆含量的双层涂层 | 第60-66页 |
| 5.2.1 3B5Z、5B5Z和7B5Z涂层的物相分析 | 第60-61页 |
| 5.2.2 30wt%B_4C,50wt%锆含量的涂层 | 第61-62页 |
| 5.2.3 50wt% B_4C,50wt%锆含量的涂层 | 第62-63页 |
| 5.2.4 70wt% B_4C,50wt%锆含量的涂层 | 第63-66页 |
| 5.3 B_4C体系,26.5wt%锆含量的双层涂层的烧蚀研究 | 第66-70页 |
| 5.3.1 三种涂层的质量烧蚀率 | 第66-67页 |
| 5.3.2 7B2Z体系涂层烧蚀后的组织结构分析 | 第67-70页 |
| 5.4 小结 | 第70-72页 |
| 第六章 结论 | 第72-74页 |
| 参考文献 | 第74-78页 |
| 硕士期间发表的论文及研究成果 | 第78-79页 |
| 致谢 | 第79页 |
