| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-8页 |
| 目录 | 第8-10页 |
| CONTENT | 第10-13页 |
| 第一章 绪论 | 第13-31页 |
| ·ZnO的结构及其基本性质 | 第13-17页 |
| ·ZnO的晶体结构 | 第13-14页 |
| ·ZnO的能带结构 | 第14页 |
| ·ZnO的缺陷及掺杂 | 第14-15页 |
| ·ZnO薄膜的光学性质 | 第15-17页 |
| ·稀土的电子结构与能带结构 | 第17-23页 |
| ·稀土元素的基本性质和电子层结构 | 第18-20页 |
| ·稀土的能级和跃迁 | 第20-23页 |
| ·ZnO:Eu~(3+)发光材料的基本理论和研究进展 | 第23-29页 |
| ·能量传输与发光 | 第23-24页 |
| ·Eu~(3+)发光材料的发光机理 | 第24-27页 |
| ·ZnO:Eu~(3+)发光材料的研究进展 | 第27-29页 |
| ·本文研究的目的与内容 | 第29-31页 |
| 第二章 磁控溅射法制备ZnO:Eu~(3+)薄膜及其检测 | 第31-39页 |
| ·ZnO:Eu~(3+)薄膜的制备 | 第31-36页 |
| ·磁控溅射法的原理及特点 | 第31-34页 |
| ·薄膜的制备 | 第34-36页 |
| ·ZnO:Eu~(3+)薄膜的表征方法 | 第36-39页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第36-37页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第37-38页 |
| ·荧光光谱仪 | 第38-39页 |
| 第三章 溅射功率对ZnO:Eu~(3+)薄膜结构和发光性能的影响 | 第39-47页 |
| ·XRD谱及分析 | 第39-41页 |
| ·SEM谱及分析 | 第41-42页 |
| ·PL谱及PLE谱分析 | 第42-46页 |
| ·本章小结 | 第46-47页 |
| 第四章 氧氩比对ZnO:Eu~(3+)薄膜结构和发光性能的影响 | 第47-57页 |
| ·XRD谱及分析 | 第47-49页 |
| ·PL谱及PLE谱分析 | 第49-55页 |
| ·本章小结 | 第55-57页 |
| 第五章 衬底温度、退火气氛和掺杂量对ZnO:Eu~(3+)薄膜发光性能的影响 | 第57-63页 |
| ·衬底温度 | 第57-60页 |
| ·样品制备条件 | 第57页 |
| ·PL谱及分析 | 第57-58页 |
| ·SEM谱及分析 | 第58-60页 |
| ·退火气氛 | 第60-61页 |
| ·样品制备条件 | 第60页 |
| ·PL谱及分析 | 第60-61页 |
| ·Eu~(3+)掺杂浓度 | 第61-62页 |
| ·样品制备条件 | 第61页 |
| ·PL谱及分析 | 第61-62页 |
| ·本章小结 | 第62-63页 |
| 结论 | 第63-65页 |
| 论文创新点 | 第64页 |
| 有待进一步开展的工作 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-68页 |
| 攻读硕士期间发表的论文 | 第68-70页 |
| 致谢 | 第70页 |
