五通道柱面晶体谱仪关键技术研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-9页 |
| 1 绪论 | 第9-14页 |
| ·引言 | 第9-10页 |
| ·受控核聚变研究的基本理论 | 第10页 |
| ·等离子体X 射线谱仪研究现状 | 第10-12页 |
| ·课题的来源及意义 | 第12页 |
| ·论文的总体规划 | 第12-13页 |
| ·本章小结 | 第13-14页 |
| 2 晶体谱仪光学系统 | 第14-25页 |
| ·谱仪总体功能组成介绍 | 第14-15页 |
| ·晶体对X 射线的衍射原理 | 第15-18页 |
| ·光波干涉的基本理论 | 第15-16页 |
| ·基于晶体分光的X 射线衍射 | 第16-18页 |
| ·谱仪光路分析 | 第18-19页 |
| ·反射式弯晶分析 | 第19-21页 |
| ·反射式弯晶结构 | 第19-20页 |
| ·反射式弯晶光学参数计算 | 第20-21页 |
| ·透射式弯晶分析 | 第21-23页 |
| ·CMOS 探测器 | 第23-24页 |
| ·本章小结 | 第24-25页 |
| 3 晶体谱仪送靶机构结构设计研究 | 第25-37页 |
| ·送靶机构使用背景简介 | 第25页 |
| ·送靶机构结构设计研究 | 第25-27页 |
| ·结构运动要求 | 第25页 |
| ·结构设计分析 | 第25-27页 |
| ·机构零位标定 | 第27-28页 |
| ·控制部分介绍 | 第28-31页 |
| ·送靶机构重复定位精度研究 | 第31-35页 |
| ·重复定位误差的消除 | 第31-33页 |
| ·重复定位精度的检验 | 第33-35页 |
| ·本章小结 | 第35-37页 |
| 4 晶体谱仪调节机构结构设计研究 | 第37-44页 |
| ·调节机构使用背景简介 | 第37页 |
| ·调节机构结构设计研究 | 第37-39页 |
| ·调节精度设计研究 | 第39-40页 |
| ·调节机构运动分析 | 第40-41页 |
| ·调节实例分析 | 第41-42页 |
| ·本章小结 | 第42-44页 |
| 5 关键件有限元分析 | 第44-58页 |
| ·有限元分析的基本理论 | 第44-45页 |
| ·结构静力分析 | 第45-52页 |
| ·结构静力分析理论 | 第45-47页 |
| ·结构静力分析的一般步骤 | 第47页 |
| ·有限元模型的建立 | 第47-51页 |
| ·计算结果与分析 | 第51-52页 |
| ·结构模态分析 | 第52-57页 |
| ·结构模态分析的基本方法 | 第53-54页 |
| ·光源支撑架边界条件建立和网格划分 | 第54页 |
| ·计算结果与分析 | 第54-57页 |
| ·本章小结 | 第57-58页 |
| 6 总结及展望 | 第58-59页 |
| 致谢 | 第59-61页 |
| 参考文献 | 第61-63页 |
| 附录 | 第63页 |
