摘要 | 第5-6页 |
Abstract | 第6页 |
1 绪论 | 第10-23页 |
1.1 氨基酸、糖类化合物的概述 | 第10-11页 |
1.1.1 氨基酸类化合物 | 第10页 |
1.1.2 糖类化合物 | 第10-11页 |
1.2 糖酯表面活性剂的概述 | 第11-12页 |
1.3 糖酯类表面活性剂的应用 | 第12-15页 |
1.3.1 医药行业 | 第12页 |
1.3.2 食品行业 | 第12-14页 |
1.3.3 日用化学品行业 | 第14页 |
1.3.4 其它行业 | 第14-15页 |
1.4 糖酯的合成方法 | 第15-21页 |
1.4.1 化学合成法 | 第15-18页 |
1.4.2 酶合成法 | 第18-20页 |
1.4.3 生物发酵合成 | 第20-21页 |
1.5 本文研究的意义及主要内容 | 第21-23页 |
1.5.1 研究的意义 | 第21页 |
1.5.2 研究的主要内容 | 第21-23页 |
2 实验部分 | 第23-29页 |
2.1 实验材料 | 第23-24页 |
2.1.1 实验试剂 | 第23-24页 |
2.1.2 实验仪器 | 第24页 |
2.2 2,3,4,6-四-O-苄基-D-葡萄糖(3)的合成 | 第24-25页 |
2.2.1 合成路线 | 第24页 |
2.2.2 操作步骤 | 第24-25页 |
2.3 N-酰基氨基酸(6a-d)的合成 | 第25-26页 |
2.3.1 合成路线 | 第25页 |
2.3.2 操作步骤(以化合物6a_2的合成为例) | 第25-26页 |
2.4 氨基酸苄基葡萄糖酯衍生物(7a-d)的合成 | 第26页 |
2.4.1 合成路线 | 第26页 |
2.4.2 操作步骤(以化合物7a_2的合成为例) | 第26页 |
2.5 氨基酸葡萄糖酯衍生物(8a-d)的合成 | 第26-27页 |
2.5.1 合成路线 | 第26-27页 |
2.5.2 操作步骤 | 第27页 |
2.6 产物表征 | 第27-29页 |
2.6.1 熔点测定 | 第27-28页 |
2.6.2 外测试 | 第28页 |
2.6.3 核磁测试 | 第28页 |
2.6.4 质谱测试 | 第28-29页 |
3 实验结果分析与讨论 | 第29-63页 |
3.1 产物表征 | 第29-47页 |
3.1.1 甲基-2,3,4,6-四-O-苄基-D-葡萄糖(2)的结构表征 | 第29页 |
3.1.2 2,3,4,6-四-O-苄基-D-葡萄糖(3)的结构表征 | 第29-30页 |
3.1.3 N-酰基氨基酸(6a-d)的结构表征 | 第30-35页 |
3.1.4 氨基酸苄基葡萄糖酯衍生物(7a-d)结构表征 | 第35-41页 |
3.1.5 氨基酸葡萄糖酯衍生物(8a-d)的结构表征 | 第41-47页 |
3.1.6 小结 | 第47页 |
3.2 2,3,4,6-四-O-苄基-D-葡萄糖(3)的合成研究 | 第47-51页 |
3.2.1 羟基保护方法的选择 | 第47页 |
3.2.2 苄基化方法的选择 | 第47-48页 |
3.2.3 催化剂的用量对苄基化收率的影响 | 第48页 |
3.2.4 物料比对苄基化收率的影响 | 第48-49页 |
3.2.5 反应时间对苄基化收率的影响 | 第49-50页 |
3.2.6 废酸处理方法的选择 | 第50页 |
3.2.7 小结 | 第50-51页 |
3.3 N-酰基氨基酸(6a-d)的合成研究 | 第51-52页 |
3.4 氨基酸苄基葡萄糖酯衍生物(7a-d)合成研究 | 第52-57页 |
3.4.1 脱水剂和催化剂的选择 | 第52页 |
3.4.2 EDCl/DMAP缩合法机理探讨 | 第52-53页 |
3.4.3 脱水剂的用量对酯化收率的影响 | 第53-54页 |
3.4.4 物料比对酯化收率的影响 | 第54-55页 |
3.4.5 反应时间对酯化收率的影响 | 第55页 |
3.4.6 反应温度对酯化收率的影响 | 第55-56页 |
3.4.7 反应底物对酯化反应时间和收率的影响 | 第56页 |
3.4.8 小结 | 第56-57页 |
3.5 氨基酸葡萄糖酯衍生物(8a-d)合成研究 | 第57-63页 |
3.5.1 催化剂用量对收率的影响 | 第57-58页 |
3.5.2 溶剂的选择 | 第58-60页 |
3.5.3 反应温度对脱苄收率的影响 | 第60-61页 |
3.5.4 反应时间对脱苄收率的影响 | 第61页 |
3.5.5 反应底物对脱苄时间和收率影响 | 第61-62页 |
3.5.6 小结 | 第62-63页 |
4 结论 | 第63-65页 |
致谢 | 第65-66页 |
参考文献 | 第66-72页 |
附图:产物IR、~1HNM、MS的谱图 | 第72-85页 |
附录 | 第85页 |