| 摘要 | 第3-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 英文缩写简表 | 第10-11页 |
| 第1章 绪论 | 第11-18页 |
| 1.1 研究背景 | 第11-13页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第13-16页 |
| 1.2.1 铝诱导非晶硅薄膜晶化的研究进展 | 第13-15页 |
| 1.2.2 铝诱导非晶硅薄膜晶化在太阳电池中的应用 | 第15-16页 |
| 1.3 本文的研究内容与创新点 | 第16-18页 |
| 1.3.1 主要研究内容 | 第16页 |
| 1.3.2 研究方案 | 第16-18页 |
| 第2章 实验原理与方法 | 第18-29页 |
| 2.1 磁控溅射制备薄膜的原理 | 第18-19页 |
| 2.2 实验设备与材料 | 第19-20页 |
| 2.2.1 主要设备 | 第19页 |
| 2.2.2 主要原料 | 第19-20页 |
| 2.3 薄膜的制备 | 第20-21页 |
| 2.3.1 衬底的清洗 | 第20页 |
| 2.3.2 薄膜的溅射制备 | 第20-21页 |
| 2.4 光热退火 | 第21-23页 |
| 2.4.1 光热退火的基本原理 | 第21-22页 |
| 2.4.2 薄膜的退火处理 | 第22-23页 |
| 2.5 性能表征 | 第23-28页 |
| 2.5.1 光学显微镜 | 第24页 |
| 2.5.2 台阶仪 | 第24-25页 |
| 2.5.3 X射线衍射仪（XRD） | 第25-26页 |
| 2.5.4 拉曼散射谱（Raman） | 第26-27页 |
| 2.5.5 紫外-可见光吸收光谱（UV-VIS） | 第27-28页 |
| 2.6 本章小结 | 第28-29页 |
| 第3章 磁控溅射制备非晶硅薄膜的工艺优化 | 第29-35页 |
| 3.1 引言 | 第29-30页 |
| 3.2 结果与讨论 | 第30-34页 |
| 3.2.1 物相结构分析 | 第30-31页 |
| 3.2.2 SPSS统计分析 | 第31-33页 |
| 3.2.3 光学性能分析 | 第33-34页 |
| 3.3 本章小结 | 第34-35页 |
| 第4章 衬底及其温度对铝诱导非晶硅薄膜晶化的影响 | 第35-41页 |
| 4.1 引言 | 第35-36页 |
| 4.2 结果与讨论 | 第36-40页 |
| 4.2.1 物相结构分析 | 第36-39页 |
| 4.2.2 薄膜性能的理论计算分析 | 第39-40页 |
| 4.3 本章小结 | 第40-41页 |
| 第5章 单晶硅衬底外延生长硅薄膜的研究 | 第41-48页 |
| 5.1 引言 | 第41-42页 |
| 5.2 结果与讨论 | 第42-47页 |
| 5.2.1 单晶硅衬底性能分析 | 第42-44页 |
| 5.2.2 外延薄膜性能分析 | 第44-47页 |
| 5.3 本章小结 | 第47-48页 |
| 第6章 退火工艺对铝诱导非晶硅薄膜晶化的研究 | 第48-56页 |
| 6.1 引言 | 第48-49页 |
| 6.2 结果与讨论 | 第49-55页 |
| 6.2.1 表面形貌分析 | 第49-51页 |
| 6.2.2 物相结构分析 | 第51-54页 |
| 6.2.3 光学性能分析 | 第54-55页 |
| 6.3 本章小结 | 第55-56页 |
| 第7章 磁控共溅射制备多晶硅薄膜的研究 | 第56-62页 |
| 7.1 引言 | 第56-57页 |
| 7.2 结果与讨论 | 第57-61页 |
| 7.2.1 表面形貌分析 | 第57-58页 |
| 7.2.2 物相结构分析 | 第58-60页 |
| 7.2.3 光学性能分析 | 第60-61页 |
| 7.3 本章小结 | 第61-62页 |
| 第8章 结论与展望 | 第62-64页 |
| 8.1 结论 | 第62-63页 |
| 8.2 创新点 | 第63页 |
| 8.3 进一步的研究工作与展望 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-72页 |
| 攻读硕士学位期间的科研成果 | 第72-75页 |
| 致谢 | 第75页 |