| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 第一章 文献综述 | 第8-16页 |
| 1.1 光控保护基的简介 | 第8-9页 |
| 1.2 光控保护基在合成中的应用 | 第9-12页 |
| 1.2.1 在药物合成中的应用 | 第10-11页 |
| 1.2.2 在固相合成中的应用 | 第11-12页 |
| 1.3 光控保护基在药物释放中的应用 | 第12-15页 |
| 1.3.1 光致异构化引发的药物释放 | 第12-13页 |
| 1.3.2 光热效应引发的药物释放 | 第13-14页 |
| 1.3.3 光反应引发的药物释放 | 第14-15页 |
| 1.4 本论文研究内容 | 第15-16页 |
| 第二章 苯并噻喃酮类光控保护基的合成 | 第16-23页 |
| 2.1 实验试剂与仪器 | 第16-17页 |
| 2.1.1 原料与试剂 | 第16-17页 |
| 2.1.2 实验仪器与设备 | 第17页 |
| 2.2 光控保护基的设计合成及结构表征 | 第17-21页 |
| 2.2.1 化合物 2-甲基-4H-苯并噻喃4酮（1）的合成 | 第18页 |
| 2.2.2 化合物 3-碘2甲基-4H-苯并噻喃4酮（2）的合成 | 第18-19页 |
| 2.2.3 化合物 2-甲基3苯基-4H-苯并噻喃4酮（3）的合成 | 第19页 |
| 2.2.4 化合物 2-甲醛基3苯基-4H-苯并噻喃4酮（4）的合成 | 第19页 |
| 2.2.5 化合物 2-甲醛基3苯基-4H-磺酰基苯并噻喃4酮（5）的合成 | 第19-20页 |
| 2.2.6 化合物 2-甲苯磺酰腙3苯基-4H-磺酰基苯并噻喃4酮（6）的合成 | 第20页 |
| 2.2.7 化合物 2-重氮基3苯基-4H-磺酰基苯并噻喃4酮（7）的合成 | 第20-21页 |
| 2.2.8 化合物 2-羟甲基3苯基-4H-磺酰基苯并噻喃4酮（9）的合成 | 第21页 |
| 2.3 小结 | 第21-23页 |
| 第三章 光控保护基对氨基酸和磺酸的保护及其光解性质研究 | 第23-39页 |
| 3.1 引言 | 第23-24页 |
| 3.2 实验试剂与仪器 | 第24页 |
| 3.2.1 原料与试剂 | 第24页 |
| 3.2.2 实验仪器与设备 | 第24页 |
| 3.3 光控保护基对氨基酸的保护 | 第24-28页 |
| 3.3.1 化合物 11a的合成 | 第25-26页 |
| 3.3.2 化合物 11b的合成 | 第26页 |
| 3.3.3 化合物 11c的合成 | 第26-27页 |
| 3.3.4 化合物 11d的合成 | 第27页 |
| 3.3.5 化合物 11e的合成 | 第27-28页 |
| 3.3.6 化合物 11f的合成 | 第28页 |
| 3.4 光控保护基对磺酸的保护 | 第28-31页 |
| 3.4.1 化合物 14a的合成 | 第29页 |
| 3.4.2 化合物 14b的合成 | 第29-30页 |
| 3.4.3 化合物 14c的合成 | 第30页 |
| 3.4.4 化合物 14d的合成 | 第30-31页 |
| 3.5 光控保护基保护反应及脱保护反应机理 | 第31-32页 |
| 3.5.1 光控保护基的保护反应机理 | 第31页 |
| 3.5.2 光控保护基的光解脱保护反应机理 | 第31-32页 |
| 3.6 光解脱保护反应 | 第32-34页 |
| 3.6.1 被保护氨基酸的光解反应 | 第32-33页 |
| 3.6.2 被保护磺酸的光解反应 | 第33-34页 |
| 3.7 光解反应的性质表征 | 第34-38页 |
| 3.7.1 通过~1H NMR进行监测 | 第35页 |
| 3.7.2 通过高效液相色谱法进行监测 | 第35-36页 |
| 3.7.3 通过紫外光谱和荧光光谱进行监测 | 第36-38页 |
| 3.8 小结 | 第38-39页 |
| 第四章 光控保护基对炔丙醇的保护及其光解性质研究 | 第39-51页 |
| 4.1 前言 | 第39页 |
| 4.2 实验试剂与仪器 | 第39-40页 |
| 4.2.1 原料与试剂 | 第39-40页 |
| 4.2.2 实验仪器与设备 | 第40页 |
| 4.3 系列炔醇衍生物（15a - 15f）的合成 | 第40-42页 |
| 4.3.1 化合物 15a的合成 | 第40页 |
| 4.3.2 化合物 15b的合成 | 第40-41页 |
| 4.3.3 化合物 15c的合成 | 第41页 |
| 4.3.4 化合物 15d的合成 | 第41页 |
| 4.3.5 化合物 15e的合成 | 第41-42页 |
| 4.3.6 化合物 15f的合成 | 第42页 |
| 4.4 光控保护基对炔丙醇的保护 | 第42-46页 |
| 4.4.1 化合物 16a的合成 | 第43页 |
| 4.4.2 化合物 16b的合成 | 第43-44页 |
| 4.4.3 化合物 16c的合成 | 第44页 |
| 4.4.4 化合物 16d的合成 | 第44-45页 |
| 4.4.5 化合物 16e的合成 | 第45页 |
| 4.4.6 化合物 16f的合成 | 第45-46页 |
| 4.5 被保护的炔丙醇的光解反应 | 第46-47页 |
| 4.6 光解反应的性质表征 | 第47-50页 |
| 4.6.1 通过~1H NMR进行监测 | 第47-48页 |
| 4.6.2 通过高效液相色谱进行监测 | 第48-49页 |
| 4.6.3 通过紫外光谱和荧光光谱进行监测 | 第49-50页 |
| 4.7 小结 | 第50-51页 |
| 第五章 结论 | 第51-52页 |
| 参考文献 | 第52-57页 |
| 发表论文和科研情况说明 | 第57-58页 |
| 致谢 | 第58-59页 |
| 附录 | 第59-77页 |
