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气液两相流相含率测量新方法研究

致谢第5-6页
摘要第6-7页
ABSTRACT第7-8页
第1章 绪论第11-19页
    摘要第11页
    本章主要内容第11-12页
    1.1 气液两相流主要参数第12-13页
    1.2 气液两相流相含率测量技术第13-14页
    1.3 C~4D技术简介第14-15页
    1.4 本文主要研究工作第15-17页
    1.5 本章小结第17-19页
第2章 文献综述第19-33页
    摘要第19页
    本章主要由容第19-20页
    2.1 气液两相流相含率测量第20-22页
    2.2 电容耦合式非接触电导测量技术第22-27页
        2.2.1 C~4D技术的测量原理第23-24页
        2.2.2 C~4D技术的研究现状第24-27页
        2.2.3 C~4D技术的应用第27页
    2.3 数据挖掘技术第27-32页
        2.3.1 主成分分析第28-29页
        2.3.2 偏最小二乘回归第29-30页
        2.3.3 支持向量机第30-32页
    2.4 本章小结第32-33页
第3章 基于C~4D技术的相含率测量研究方案第33-37页
    摘要第33页
    本章主要内容第33-34页
    3.1 基于C~4D技术的相含率测量方案第34-35页
    3.2 基于C~4D技术的相含率测量技术路线第35-36页
    3.3 本章小结第36-37页
第4章 基于C~4D技术的相含率测量系统设计第37-53页
    摘要第37页
    本章主要内容第37-38页
    4.1 基于C~4D技术的相含率测量系统第38-39页
    4.2 新型六电极阵列式C~4D传感器原理及其设计第39-41页
        4.2.1 新型六电极阵列式C~4D传感器测量原理第39-40页
        4.2.2 新型六电极阵列式C~4D传感器设计与制作第40-41页
    4.3 激励/检测模块设计第41-46页
        4.3.1 电极控制模块第42页
        4.3.2 相敏解调模块第42-46页
    4.4 数据采集模块第46页
    4.5 电导率测量验证实验第46-51页
    4.6 本章小结第51-53页
第5章 基于C~4D技术的相含率测量实验第53-75页
    摘要第53页
    本章主要内容第53-54页
    5.1 相含率测量实验第54页
    5.2 流型辨识方案第54-56页
    5.3 相含率测量模型的建立第56-62页
        5.3.1 基于PLSR的相含率测量模型第56-58页
        5.3.2 基于PCA和LS-SVM的相含率测量模型第58-61页
        5.3.3 基于PCA和WLS-SVM的相含率测量模型第61-62页
    5.4 相含率测量实验结果与比较第62-73页
    5.5 本章小结第73-75页
第6章 总结与展望第75-77页
参考文献第77-83页
攻读硕士学位期间所取得的科研成果与奖励第83页

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