摘要 | 第5-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
第一章 绪论 | 第10-18页 |
1.1 引言 | 第10页 |
1.2 金属纳米线 | 第10-11页 |
1.3 单质纳米线 | 第11-12页 |
1.4 合金纳米线 | 第12-13页 |
1.5 共沉积的研究 | 第13-15页 |
1.6 纳米线的性质 | 第15-17页 |
1.6.1 磁性/使用 | 第15-16页 |
1.6.2 电性能/用途 | 第16页 |
1.6.3 光学性质/用途 | 第16-17页 |
1.7 本文选题思想及研究的主要问题 | 第17-18页 |
第二章 纳米线的制备和表征方法 | 第18-28页 |
2.1 引言 | 第18-19页 |
2.2 模板的制备 | 第19-22页 |
2.2.1 实验所用的试剂 | 第19页 |
2.2.2 实验所用的仪器 | 第19页 |
2.2.3 多孔氧化铝模板制备方法 | 第19-22页 |
2.3 主要表征手段 | 第22-28页 |
2.3.1 X射线衍射仪 | 第22-23页 |
2.3.2 扫描电子显微镜 | 第23-24页 |
2.3.3 X射线能量色散谱仪 | 第24页 |
2.3.4 模板的SEM表征 | 第24-25页 |
2.3.5 镀金时间 | 第25-27页 |
2.3.6 AAO膜的XRD表征 | 第27-28页 |
第三章 研究Fe-Ni合金金属纳米线的共沉积 | 第28-51页 |
3.1 引言 | 第28页 |
3.2 单质纳米线的沉积 | 第28-38页 |
3.2.1 实验所用的药品 | 第29页 |
3.2.2 实验所用的仪器 | 第29页 |
3.2.3 实验过程 | 第29-30页 |
3.2.4 主要表征手段 | 第30页 |
3.2.5 单质纳米线的极化曲线 | 第30-31页 |
3.2.6 单质纳米线的电流-时间(I-t)曲线 | 第31-33页 |
3.2.7 不同沉积电压的Fe-Ni单质纳米线的XRD和SEM | 第33-38页 |
3.3 Fe-Ni合金纳米线的沉积 | 第38-44页 |
3.3.0 实验所用药品和试剂 | 第38页 |
3.3.1 实验所用的仪器 | 第38-39页 |
3.3.2 实验过程 | 第39页 |
3.3.3 Fe-Ni合金纳米线的SEM和EDS | 第39-42页 |
3.3.4 Fe-Ni合金纳米线的极化曲线和I-t曲线 | 第42-43页 |
3.3.5 Fe-Ni合金纳米线的XRD | 第43-44页 |
3.4 Fe-Ni合金纳米线的共沉积机理 | 第44-50页 |
3.4.1 经典的电沉积理论 | 第44-45页 |
3.4.2 电沉积的动力学 | 第45-47页 |
3.4.3 晶体的成核和生长 | 第47页 |
3.4.4 合金纳米线共沉积机理 | 第47-50页 |
3.5 本章总结 | 第50-51页 |
第四章 总结与展望 | 第51-52页 |
4.1 论文总结 | 第51页 |
4.2 工作展望 | 第51-52页 |
参考文献 | 第52-57页 |
在校期间研究成果 | 第57-58页 |
致谢 | 第58页 |