| 摘要 | 第1-4页 |
| 英文摘要 | 第4-8页 |
| 第1章 绪论 | 第8-18页 |
| ·NEA-GaAs光阴极工作性能的限制因素 | 第10-13页 |
| ·描述光阴极性能的主要参数 | 第10页 |
| ·影响NEA-GaAs阴极工作性能的主要因素 | 第10-13页 |
| ·光阴极注入器离子反轰研究现状 | 第13-16页 |
| ·光阴极性能测量现状 | 第13-14页 |
| ·离子反轰研究现状 | 第14-16页 |
| ·论文工作的主要内容及创新点 | 第16-18页 |
| ·论文工作的主要内容 | 第16-17页 |
| ·论文的主要创新点 | 第17-18页 |
| 第2章 光阴极直流高压电子枪的离子反轰物理特性分析 | 第18-38页 |
| ·气体分子的离子化机制 | 第18-21页 |
| ·电子束的非弹性散射 | 第19-21页 |
| ·离子产生率 | 第21页 |
| ·直流高压电子枪离子反轰模型 | 第21-26页 |
| ·电场和气压分布建模 | 第21-24页 |
| ·离子产额的计算 | 第24-25页 |
| ·离子的初始状态 | 第25-26页 |
| ·离子的动力学分析 | 第26-33页 |
| ·数值计算的参数设置 | 第26-27页 |
| ·离子产生过程的模拟验证 | 第27-28页 |
| ·离子运动的数值模拟 | 第28-33页 |
| ·电子-离子的相互作用 | 第33-35页 |
| ·离子对阴极材料损伤评估 | 第35-37页 |
| ·小结 | 第37-38页 |
| 第3章 光阴极直流高压电子枪离子反轰的抑制方法 | 第38-57页 |
| ·电子枪运行参数优化 | 第38-41页 |
| ·电子枪真空度与离子反轰的关系 | 第38-40页 |
| ·枪电压与离子反轰的关系 | 第40-41页 |
| ·束流偏轴发射的方法 | 第41-51页 |
| ·束流发射区域的离子反轰抑制 | 第43-46页 |
| ·偏轴发射对束流的影响 | 第46-49页 |
| ·阳极孔径的优化 | 第49-51页 |
| ·施加阳极偏压的方法 | 第51-55页 |
| ·阳极偏压对离子反轰的抑制效果 | 第51-54页 |
| ·可施加偏压的阳极设计 | 第54-55页 |
| ·小结 | 第55-57页 |
| 第4章 光阴极直流高压电子枪的束流偏轴发射实验 | 第57-70页 |
| ·光阴极量子效率分布测量系统设计 | 第58-63页 |
| ·测量原理 | 第58-60页 |
| ·光学设计 | 第60-61页 |
| ·采样控制系统 | 第61-63页 |
| ·NEA-GaAs光阴极量子效率分布测量 | 第63-65页 |
| ·光阴极直流高压电子枪束流偏轴发射初步实验 | 第65-68页 |
| ·直流高压电子枪装置 | 第65-66页 |
| ·GaAs阴极量子效率分布测量与分析 | 第66-68页 |
| ·小结 | 第68-70页 |
| 第5章 总结 | 第70-72页 |
| 致谢 | 第72-73页 |
| 参考文献 | 第73-79页 |
| 个人简历、在学期间发表的学术论文 | 第79页 |