| 致谢 | 第1-5页 |
| 摘要 | 第5-6页 |
| abstract | 第6-11页 |
| 1 绪论 | 第11-27页 |
| ·课题的背景及意义 | 第11-12页 |
| ·分子印迹技术 | 第12-20页 |
| ·分子印迹技术的发展概况 | 第12-13页 |
| ·分子印迹技术的基本原理 | 第13页 |
| ·分子印迹技术的分类 | 第13-15页 |
| ·分子印迹体系的选择 | 第15-17页 |
| ·分子印迹聚合物的制备方法 | 第17-19页 |
| ·分子印迹技术的特点 | 第19-20页 |
| ·溶胶-凝胶技术 | 第20-22页 |
| ·溶胶-凝胶技术的发展概况 | 第20页 |
| ·溶胶-凝胶材料制备的基本原理 | 第20-21页 |
| ·溶胶-凝胶技术的特点 | 第21-22页 |
| ·溶胶-凝胶分子印迹技术 | 第22-25页 |
| ·溶胶-凝胶分子印迹聚合物的制备方法 | 第22页 |
| ·溶胶-凝胶分子印迹技术的特点 | 第22页 |
| ·溶胶-凝胶分子印迹技术的应用 | 第22-25页 |
| ·本文的主要研究内容 | 第25-27页 |
| 2 实验材料及方法 | 第27-33页 |
| ·实验仪器与试剂 | 第27-29页 |
| ·实验仪器 | 第27页 |
| ·实验试剂 | 第27-29页 |
| ·实验部分 | 第29-30页 |
| ·罗丹明B溶胶-凝胶分子印迹聚合物制备 | 第29页 |
| ·罗丹明B标准曲线的绘制 | 第29-30页 |
| ·印迹聚合物的结构与性能表征 | 第30-33页 |
| ·红外光谱测试（FT-IR） | 第30页 |
| ·热重分析（TGA） | 第30页 |
| ·透射电镜分析（TEM） | 第30页 |
| ·静态吸附 | 第30-31页 |
| ·动态吸附 | 第31页 |
| ·选择性吸附 | 第31页 |
| ·重复利用率 | 第31-33页 |
| 3 罗丹明B的二氧化钛溶胶-凝胶分子印迹聚合物 | 第33-45页 |
| ·罗丹明B溶胶-凝胶分子印迹聚合物的制备 | 第33页 |
| ·制备条件对分子印迹聚合物吸附性能的影响 | 第33-36页 |
| ·罗丹明B和钛酸丁酯的摩尔比 | 第33-34页 |
| ·水的用量 | 第34-35页 |
| ·酸的用量 | 第35页 |
| ·反应温度 | 第35-36页 |
| ·印迹聚合物的结构和性能表征 | 第36-43页 |
| ·红外光谱测试（FT-IR） | 第36-37页 |
| ·热重分析（TGA） | 第37-38页 |
| ·透射电镜分析（TEM） | 第38-39页 |
| ·静态吸附及Scatchard分析 | 第39-40页 |
| ·分子印迹聚合物的吸附动力学曲线 | 第40-41页 |
| ·选择性能评价 | 第41-42页 |
| ·重复利用率 | 第42-43页 |
| ·小结 | 第43-45页 |
| 4 罗丹明B的钛硅复合溶胶-凝胶分子印迹聚合物 | 第45-53页 |
| ·罗丹明B溶胶-凝胶分子印迹聚合物的制备 | 第45页 |
| ·分子印迹聚合物的结构和性能表征 | 第45-52页 |
| ·红外光谱测试（FT-IR） | 第45-46页 |
| ·热重分析（TGA） | 第46-47页 |
| ·透射电镜分析（TEM） | 第47-48页 |
| ·静态吸附及Scatchard分析 | 第48-50页 |
| ·分子印迹聚合物的吸附动力学曲线 | 第50-51页 |
| ·选择性能评价 | 第51页 |
| ·重复利用率 | 第51-52页 |
| ·小结 | 第52-53页 |
| 5 以PTEOS改性的罗丹明B的二氧化钛溶胶-凝胶分子印迹聚合物 | 第53-63页 |
| ·罗丹明B溶胶-凝胶分子印迹聚合物的制备 | 第53页 |
| ·分子印迹聚合物的结构和性能表征 | 第53-61页 |
| ·印迹聚合物的合成路线分析 | 第53-54页 |
| ·红外光谱测试（FT-IR） | 第54-55页 |
| ·热重分析（TGA） | 第55-56页 |
| ·透射电镜分析（TEM） | 第56-57页 |
| ·静态吸附及Scatchard分析 | 第57-59页 |
| ·分子印迹聚合物的吸附动力学曲线 | 第59页 |
| ·选择性能评价 | 第59-60页 |
| ·重复利用率 | 第60-61页 |
| ·小结 | 第61-63页 |
| 6 结论与展望 | 第63-65页 |
| ·结论 | 第63页 |
| ·展望 | 第63-65页 |
| 参考文献 | 第65-73页 |
| 作者简历 | 第73-75页 |
| 学位论文数据集 | 第75页 |