硅基MEMS微波带通滤波器的设计及制备
摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-9页 |
1. 绪论 | 第9-17页 |
·课题研究背景及意义 | 第9-11页 |
·国内外MEMS滤波器研究现状 | 第11-16页 |
·MEMS微机械滤波器 | 第12-14页 |
·压电RF MEMS | 第14-15页 |
·MEMS可调谐滤波器 | 第15-16页 |
·本论文主要研究内容 | 第16-17页 |
2. MEMS滤波器的理论基础 | 第17-31页 |
·滤波器主要技术参数 | 第17-20页 |
·阶跃阻抗谐振器SIR结构 | 第20-22页 |
·交指带通滤波器 | 第22-25页 |
·耦合系数和外部品质因数的提取 | 第25-30页 |
·滤波器的网络综合法 | 第26-27页 |
·耦合系数的提取 | 第27-28页 |
·有载品质因数的提取 | 第28-30页 |
·本章小结 | 第30-31页 |
3. MEMS滤波器的设计及仿真 | 第31-43页 |
·交指带通滤波器的设计 | 第31-34页 |
·MEMS滤波器结构设计 | 第34-35页 |
·MEMS滤波器电磁仿真 | 第35-40页 |
·2.35GHz滤波器的设计仿真 | 第35-37页 |
·10.9GHz滤波器仿真结果 | 第37-38页 |
·20.4GHz滤波器的设计仿真 | 第38-39页 |
·其他滤波器的仿真结果 | 第39-40页 |
·参数变化对滤波器性能的影响分析 | 第40-42页 |
·衬底电阻率对滤波器性能的影响 | 第40页 |
·衬底厚度对滤波器性能的影响 | 第40-41页 |
·通孔形状对滤波器性能的影响 | 第41-42页 |
·本章小结 | 第42-43页 |
4. MEMS滤波器的制备 | 第43-59页 |
·MEMS微波带通滤波器版图设计 | 第43-46页 |
·MEMS滤波器的整体版图 | 第43页 |
·MEMS滤波器的分层版图 | 第43-46页 |
·工艺介绍 | 第46-50页 |
·清洗工艺 | 第46-47页 |
·光刻工艺 | 第47页 |
·氧化工艺 | 第47-48页 |
·刻蚀工艺 | 第48-49页 |
·金属化 | 第49页 |
·键合 | 第49-50页 |
·单项实验 | 第50-55页 |
·通孔刻蚀(TSV)实验 | 第50-52页 |
·硅片表面金属化实验 | 第52-53页 |
·交指电极的制备 | 第53-54页 |
·通孔侧壁金属化 | 第54-55页 |
·工艺流程设计 | 第55-58页 |
·本章小结 | 第58-59页 |
5. MEMS滤波器性能测试 | 第59-64页 |
·滤波器测试方法介绍 | 第59-60页 |
·滤波器实物测试和分析 | 第60-63页 |
·滤波器的测试结果 | 第60-61页 |
·MEMS微波滤波器结果分析 | 第61-63页 |
·本章小结 | 第63-64页 |
6. 总结与展望 | 第64-66页 |
·工作总结 | 第64页 |
·工作展望 | 第64-66页 |
参考文献 | 第66-72页 |
攻读硕士期间发表的论文及所取得的研究成果 | 第72-73页 |
致谢 | 第73-74页 |