| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-12页 |
| 第1章 绪论 | 第12-17页 |
| ·研究背景和意义 | 第12-13页 |
| ·国内外研究现状及进展 | 第13-15页 |
| ·本论文的研究意义及主要内容 | 第15-17页 |
| 第2章 材料制备方法与表征 | 第17-26页 |
| ·材料制备方法及原理 | 第17-20页 |
| ·基于溶液的制备方法(Solution-based method) | 第17-18页 |
| ·磁控溅射法(Magnetron Sputtering) | 第18-20页 |
| ·材料测试与表征 | 第20-26页 |
| ·台阶仪 | 第20-21页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第21-22页 |
| ·拉曼散射光谱(Raman) | 第22-23页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第23-24页 |
| ·能谱仪(EDS) | 第24页 |
| ·X射线荧光光谱分析(XRF) | 第24页 |
| ·傅里叶红外光谱仪(FTIR spectrum) | 第24-26页 |
| 第3章 墨水涂覆法制备CZTS薄膜 | 第26-31页 |
| ·墨水涂覆法制备CZTS薄膜实验条件 | 第26-27页 |
| ·结果与讨论 | 第27-30页 |
| ·XRD测试分析 | 第27-29页 |
| ·拉曼散射光谱测试分析 | 第29页 |
| ·SEM测试分析 | 第29-30页 |
| ·本章小结 | 第30-31页 |
| 第4章 热注入法以金属氯化物制备CZTS纳米材料 | 第31-44页 |
| ·以金属氯化物为反应物制备CZTS纳米材料实验条件 | 第31-32页 |
| ·结果与讨论 | 第32-33页 |
| ·XRD测试分析 | 第32页 |
| ·SEM测试分析 | 第32-33页 |
| ·以金属氯化物为反应物制备CZTS纳米材料实验条件 | 第33-34页 |
| ·结果与讨论 | 第34-37页 |
| ·XRD测试分析 | 第34-35页 |
| ·SEM测试分析 | 第35-36页 |
| ·FTIR测试分析 | 第36-37页 |
| ·EDS测试分析 | 第37页 |
| ·不同温度下以金属氯化物为反应物制备CZTS纳米材料实验条件 | 第37-38页 |
| ·结果与讨论 | 第38-42页 |
| ·不同反应温度对样品物相的影响 | 第38-39页 |
| ·不同反应温度下制备样品的拉曼散射光谱分析 | 第39-41页 |
| ·不同反应温度下制备样品的EDS分析 | 第41-42页 |
| ·本章小结 | 第42-44页 |
| 第5章 热注入法以二乙基二硫代甲酸盐(DDTC-X)制备CZTS纳米材料 | 第44-58页 |
| ·不同反应温度下制备CZTS纳米材料实验条件 | 第44-46页 |
| ·结果与讨论 | 第46-50页 |
| ·反应温度对样品XRD的影响 | 第46-48页 |
| ·反应温度对拉曼散射光谱的影响 | 第48页 |
| ·反应温度对样品SEM的影响 | 第48-50页 |
| ·不同反应温度下制备CZTS纳米材料实验条件 | 第50-51页 |
| ·结果与讨论 | 第51-56页 |
| ·反应温度对样品物相分析的影响 | 第51-54页 |
| ·反应温度对样品拉曼散射光谱的影响 | 第54-55页 |
| ·反应温度对样品成分的影响 | 第55-56页 |
| ·本章小结 | 第56-58页 |
| 第6章 射频磁控溅射法制备CZTS薄膜材料 | 第58-74页 |
| ·射频磁控溅射法制备CZTS薄膜材料实验条件 | 第58-61页 |
| ·CZTS靶材制备 | 第58-59页 |
| ·射频磁控溅射法制备CZTS薄膜材料实验条件 | 第59-61页 |
| ·结果与讨论 | 第61-73页 |
| ·XRD测试 | 第61-66页 |
| ·拉曼散射光谱测试 | 第66-70页 |
| ·XRF测试 | 第70-73页 |
| ·本章小结 | 第73-74页 |
| 结束语 | 第74-76页 |
| 参考文献 | 第76-81页 |
| 致谢 | 第81-82页 |
| 攻读硕士研究生期间发表的学术论文 | 第82页 |
