| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-26页 |
| ·引言 | 第8页 |
| ·阻变存储器的工作原理 | 第8-9页 |
| ·阻变存储器的材料体系 | 第9-15页 |
| ·多元金属氧化物 | 第9-11页 |
| ·固体电解液材料 | 第11-12页 |
| ·有机材料 | 第12-13页 |
| ·二元金属氧化物 | 第13-15页 |
| ·阻变机理 | 第15-22页 |
| ·导电细丝机制 | 第16-18页 |
| ·空间电荷限制电流效应 | 第18-20页 |
| ·普尔-法兰克效应 | 第20-21页 |
| ·肖特基发射机制 | 第21-22页 |
| ·改善阻变元件性能的方法 | 第22-25页 |
| ·掺杂 | 第22-23页 |
| ·选择合适的电极材料 | 第23-25页 |
| ·本文的研究意义及内容 | 第25-26页 |
| 第二章 阻变元件的制备及其性能表征方法 | 第26-31页 |
| ·阻变元件的结构 | 第26页 |
| ·阻变元件的制备方法 | 第26-29页 |
| ·磁控溅射 | 第27-28页 |
| ·阻变元件的制备 | 第28-29页 |
| ·薄膜和元件的测试与表征 | 第29-31页 |
| ·表面形貌测试 | 第29页 |
| ·膜厚测试 | 第29-30页 |
| ·薄膜成分、价态测试 | 第30页 |
| ·晶体结构测试 | 第30页 |
| ·阻变特性测试 | 第30-31页 |
| 第三章 TiO_2薄膜的阻变特性研究 | 第31-45页 |
| ·TiO_2薄膜材料特性表征 | 第31-33页 |
| ·TiO_2薄膜的阻变特性及机理研究 | 第33-43页 |
| ·W/TiO_2/ITO元件的阻变特性及其机理分析 | 第33-39页 |
| ·Cu/TiO_2/ITO元件的阻变特性及其机理分析 | 第39-41页 |
| ·Al/TiO_2/ITO元件的阻变特性及其机理分析 | 第41-42页 |
| ·Ti/TiO_2/ITO元件的阻变特性及其机理分析 | 第42-43页 |
| ·本章小结 | 第43-45页 |
| 第四章 Al掺杂TiO_2薄膜的阻变特性研究 | 第45-58页 |
| ·TiO_2：Al薄膜材料特性表征 | 第45-46页 |
| ·TiO_2：Al薄膜的阻变特性及机理研究 | 第46-57页 |
| ·W/TiO_2：Al/ITO元件的阻变特性及机理分析 | 第47-51页 |
| ·Cu/TiO_2：Al/ITO元件的阻变特性及机理分析 | 第51-54页 |
| ·Ti/TiO_2：Al/ITO元件的阻变特性及机理分析 | 第54-57页 |
| ·本章小结 | 第57-58页 |
| 第五章 Cu掺杂TiO_2薄膜的阻变特性研究 | 第58-70页 |
| ·TiO_2：Cu薄膜材料特性表征 | 第58-59页 |
| ·TiO_2：Cu薄膜的阻变特性及机理研究 | 第59-69页 |
| ·W/TiO_2：Cu/ITO元件的阻变特性及机理分析 | 第60-64页 |
| ·Cu/TiO_2：Cu/ITO元件的阻变特性及机理分析 | 第64-65页 |
| ·Al/TiO_2：Cu/ITO元件的阻变特性及机理分析 | 第65-66页 |
| ·Ti/TiO_2：Cu/ITO元件的阻变特性及机理分析 | 第66-69页 |
| ·本章小结 | 第69-70页 |
| 第六章 结论 | 第70-72页 |
| 参考文献 | 第72-78页 |
| 致谢 | 第78-79页 |
| 个人简历 | 第79-80页 |
| 在学期间的研究成果 | 第80页 |
