基于元胞自动机模型的硅各向异性腐蚀模拟
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-23页 |
| ·研究背景 | 第9-14页 |
| ·MEMS与硅微加工技术 | 第9-10页 |
| ·硅腐蚀模拟 | 第10-11页 |
| ·MEMS CAD技术 | 第11页 |
| ·GPU技术 | 第11-14页 |
| ·元胞自动机技术研究 | 第14-16页 |
| ·元胞自动机概述 | 第14-15页 |
| ·元胞自动机的分类 | 第15-16页 |
| ·硅各向异性腐蚀模拟 | 第16-21页 |
| ·硅的结构特性 | 第17-19页 |
| ·基于几何模型的硅腐蚀模拟 | 第19页 |
| ·基于CA模型的硅腐蚀模拟 | 第19-21页 |
| ·论文的研究意义 | 第21页 |
| ·论文的研究目标和组织结构 | 第21-23页 |
| 第2章 基于CA的硅各向异性腐蚀模拟 | 第23-34页 |
| ·引言 | 第23页 |
| ·基于CA模型的硅各向异性腐蚀模拟的方法概述 | 第23-25页 |
| ·基于CA模型的硅各向异性腐蚀过程的模拟 | 第25-33页 |
| ·衬底的创建过程模拟 | 第25-31页 |
| ·衬底的腐蚀过程模拟 | 第31-33页 |
| ·本章小结 | 第33-34页 |
| 第3章 面向内存受限的硅各向异性腐蚀模拟 | 第34-41页 |
| ·引言 | 第34页 |
| ·硅各向异性腐蚀中的内存瓶颈 | 第34-35页 |
| ·基于动态内存管理的硅各向异性腐蚀模拟 | 第35-39页 |
| ·面向内存受限的硅各向异性腐蚀模拟过程的方法概述 | 第35页 |
| ·衬底生成 | 第35-37页 |
| ·动态内存分配下的衬底腐蚀模拟 | 第37-39页 |
| ·本章小结 | 第39-41页 |
| 第4章 面向GPU的硅各向异性腐蚀模拟 | 第41-47页 |
| ·引言 | 第41页 |
| ·GPU编程技术 | 第41-43页 |
| ·基于CUDA的硅各向异性腐蚀模拟 | 第43-46页 |
| ·衬底生成 | 第43-44页 |
| ·衬底腐蚀的GPU模拟 | 第44-46页 |
| ·本章小结 | 第46-47页 |
| 第5章 实验与分析 | 第47-57页 |
| ·原型系统 | 第47-49页 |
| ·开发环境 | 第47-48页 |
| ·原型系统的功能结构 | 第48-49页 |
| ·实验设计 | 第49-51页 |
| ·实验相关参数信息 | 第49-50页 |
| ·计算机模拟空间消耗对比实验 | 第50页 |
| ·计算机模拟时间消耗对比实验 | 第50-51页 |
| ·结果分析 | 第51-56页 |
| ·本章小结 | 第56-57页 |
| 第6章 总结与展望 | 第57-59页 |
| ·总结 | 第57页 |
| ·进一步的工作以及展望 | 第57-59页 |
| 参考文献 | 第59-62页 |
| 致谢 | 第62页 |
