| 附表 | 第1-6页 |
| 摘要 | 第6-8页 |
| ABSTRACT | 第8-10页 |
| 目录 | 第10-13页 |
| 第一章 绪论 | 第13-30页 |
| ·引言 | 第13-15页 |
| ·铁电材料的研究背景 | 第15-17页 |
| ·多铁体的研究现状 | 第17-21页 |
| ·本论文陶瓷和薄膜材料的合成方法 | 第21-24页 |
| ·陶瓷的合成技术 | 第22页 |
| ·激光分子束外延技术 | 第22-23页 |
| ·溶胶-凝胶技术 | 第23-24页 |
| ·本论文中应用的性能表征手段 | 第24-28页 |
| ·结构和组分的表征 | 第24-25页 |
| ·表面形貌的表征 | 第25页 |
| ·电学表征 | 第25-26页 |
| ·光学表征 | 第26-28页 |
| ·磁学表征 | 第28页 |
| ·本论文的主要研究内容 | 第28-30页 |
| 第二章 LuFeO_3陶瓷的合成及性质研究 | 第30-48页 |
| ·LuFeO_3陶瓷的合成 | 第31-33页 |
| ·LuFeO_3陶瓷的晶体结构和微观形貌 | 第33-36页 |
| ·LuFeO_3陶瓷光学性质的研究 | 第36-43页 |
| ·陶瓷表面光滑度对光学参数的影响 | 第36-38页 |
| ·椭圆偏振光谱 | 第38-41页 |
| ·漫反射光谱分析 | 第41-42页 |
| ·荧光光谱分析 | 第42-43页 |
| ·LuFeO_3陶瓷磁学性质的研究 | 第43-46页 |
| ·本章小结 | 第46-48页 |
| 第三章 L-MBE法生长LuFeO_3(LFO)薄膜及性质研究 | 第48-78页 |
| ·L-MBE法生长薄膜样品 | 第50-54页 |
| ·Si(100)衬底上的LFO薄膜特性 | 第54-63页 |
| ·结构表征 | 第54-57页 |
| ·微观形貌表征 | 第57-59页 |
| ·X射线光电子能谱分析(XPS) | 第59-60页 |
| ·薄膜的光学性质的表征 | 第60-63页 |
| ·LaNiO_3/Si(100)衬底上的LFO薄膜特性 | 第63-71页 |
| ·结构表征 | 第64-67页 |
| ·微观形貌表征 | 第67-68页 |
| ·电学特性表征 | 第68-71页 |
| ·不同单晶衬底上生长LFO薄膜 | 第71-73页 |
| ·Lu与Fe比例不同对生长薄膜的影响 | 第73-75页 |
| ·对比LuFeO_3陶瓷材料与薄膜材料的光学性质 | 第75-76页 |
| ·本章小结 | 第76-78页 |
| 第四章 Sol-gel法制备Bi掺杂LuFeO_3薄膜和MgFe_2O_4薄膜及性质研究 | 第78-100页 |
| ·Sol-gel法制备薄膜样品 | 第79页 |
| ·Si(100)衬底上的Bi掺杂LFO薄膜特性 | 第79-86页 |
| ·结构表征 | 第80-83页 |
| ·对比不同制备方法生长的薄膜的光学常数 | 第83-86页 |
| ·LaNiO_3/Si(100)衬底上的Bi掺杂LBFO薄膜特性 | 第86-93页 |
| ·晶体结构和微观形貌表征 | 第86-90页 |
| ·对比不同制备方法生长的薄膜的电学性质 | 第90-93页 |
| ·溶胶-凝胶法制备MgFe_2O_4薄膜 | 第93-98页 |
| ·不同退火温度对MFO薄膜的微结构影响 | 第94-95页 |
| ·不同退火温度对MFO薄膜磁学性质的影响 | 第95-96页 |
| ·不同退火温度对MFO薄膜光学性质的影响 | 第96-98页 |
| ·本章小结 | 第98-100页 |
| 第五章 LuFeO_3-MgFe_2O_4(LFO-MFO)复合薄膜的制备及性质研究 | 第100-108页 |
| ·L-MBE法制备MFO薄膜 | 第101-104页 |
| ·固相反应法制备MFO陶瓷靶材 | 第101页 |
| ·液相反应法制备MFO陶瓷靶材 | 第101-102页 |
| ·MFO薄膜样品的制备及结构表征 | 第102-104页 |
| ·LuFeO_3-MgFe_2O_4(LFO-MFO)复合薄膜的制备及结构表征 | 第104-105页 |
| ·LFO-MFO复合薄膜的磁学性质的研究 | 第105-107页 |
| ·本章小结 | 第107-108页 |
| 第六章 总结与展望 | 第108-112页 |
| ·总结 | 第108-111页 |
| ·展望 | 第111-112页 |
| 参考文献 | 第112-121页 |
| 攻读博士期间发表的论文 | 第121-122页 |
| 致谢 | 第122页 |
