石墨烯和碳纳米管薄膜的FED阴极制备及其场发射性能研究
| 摘要 | 第1-9页 |
| Abstract | 第9-11页 |
| 插图索引 | 第11-12页 |
| 附表索引 | 第12-13页 |
| 第1章 绪论 | 第13-25页 |
| ·传统电子显示器件 | 第13-16页 |
| ·场发射显示器件 | 第16-19页 |
| ·场发射显示器显示原理 | 第17-18页 |
| ·场发射显示器的研究进展 | 第18-19页 |
| ·电子发射理论基础 | 第19-22页 |
| ·冷阴极材料的研究进展及缺陷 | 第22-23页 |
| ·金属微尖阵列 | 第22页 |
| ·硅材质微尖阵列 | 第22-23页 |
| ·类金刚石薄膜 | 第23页 |
| ·本论文的选题依据和研究内容 | 第23-25页 |
| 第2章 柔性场发射薄膜的制备 | 第25-37页 |
| ·场发射材料的优选 | 第25-28页 |
| ·场发射材料优选判据 | 第25-26页 |
| ·碳纳米管 | 第26-27页 |
| ·石墨烯 | 第27-28页 |
| ·实验材料及仪器介绍 | 第28-29页 |
| ·表征方法 | 第29-31页 |
| ·冷场发射型扫描电镜(FESEM) | 第29页 |
| ·原子力显微镜(AFM) | 第29-30页 |
| ·透射电子显微镜(TEM) | 第30页 |
| ·四探针电阻测试仪 | 第30页 |
| ·紫外-可见-近红外光谱仪 | 第30页 |
| ·拉曼光谱 | 第30页 |
| ·X射线衍射仪 | 第30页 |
| ·划痕结合力测试仪 | 第30-31页 |
| ·场发射测试仪 | 第31页 |
| ·碳纳米管薄膜制备过程 | 第31-33页 |
| ·基底的预处理和薄膜的制备 | 第32页 |
| ·碳纳米管分散液的制备 | 第32页 |
| ·碳纳米管薄膜的制备 | 第32页 |
| ·碳纳米管薄膜的基底转移 | 第32-33页 |
| ·石墨烯薄膜的制备 | 第33-37页 |
| ·氧化石墨烯及其溶液的制备 | 第34页 |
| ·氧化石墨烯溶液的还原 | 第34页 |
| ·石墨稀薄膜的制备 | 第34-37页 |
| 第3章 碳纳米管与石墨烯薄膜的表征 | 第37-52页 |
| ·薄膜的结构、成分及形貌表征 | 第37-40页 |
| ·SEM形貌分析 | 第37-38页 |
| ·AFM | 第38-39页 |
| ·TEM分析 | 第39-40页 |
| ·薄膜的电导率及透光率表征 | 第40-45页 |
| ·四探针电阻测试仪 | 第40-42页 |
| ·紫外-可见-近红外光谱仪 | 第42-45页 |
| ·薄膜的结构及成分表征 | 第45-49页 |
| ·Raman光谱分析 | 第45-48页 |
| ·XRD分析 | 第48-49页 |
| ·膜基结合力表征 | 第49-51页 |
| ·本章小结 | 第51-52页 |
| 第4章 碳纳米管与石墨烯薄膜的场发射性能研究 | 第52-61页 |
| ·F-N隧穿公式 | 第52-54页 |
| ·碳基薄膜的场发射机制 | 第54-55页 |
| ·薄膜的制备与表征 | 第55页 |
| ·碳基薄膜的场发射性能测试 | 第55-56页 |
| ·碳纳米管薄膜的场发射性能 | 第56-59页 |
| ·结果与讨论 | 第59-60页 |
| ·本章小结 | 第60-61页 |
| 结论与展望 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-68页 |
| 致谢 | 第68-69页 |
| 附录A 攻读学位期间发表的学术论文 | 第69页 |
