碱性液腐蚀冶金多晶硅太阳电池表面织构的研究
| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-11页 |
| 第一章 引言 | 第11-27页 |
| ·研究背景与现状 | 第11-13页 |
| ·半导体太阳电池基本工作原理 | 第13-14页 |
| ·晶体硅太阳电池工业化生产流程及相关原理简介 | 第14-21页 |
| ·晶体硅表面陷光结构的制备 | 第15-20页 |
| ·太阳电池其他制作工序 | 第20-21页 |
| ·晶体硅太阳电池性能的相关参数 | 第21-24页 |
| ·太阳电池的等效电路 | 第21-22页 |
| ·表征太阳电池性能主要的电参数 | 第22-24页 |
| ·碱性腐蚀制多晶硅电池表面织构研究现状及原理 | 第24-25页 |
| ·研究现状 | 第24-25页 |
| ·碱性腐蚀液制作多晶硅表面织构的原理 | 第25页 |
| ·本研究的目的及意义 | 第25-26页 |
| ·本课题研究的内容 | 第26-27页 |
| 第二章 实验 | 第27-33页 |
| ·实验材料、设备及测试仪器 | 第27页 |
| ·实验所用材料及化学药品 | 第27页 |
| ·实验设备及测试仪器 | 第27页 |
| ·实验 | 第27-33页 |
| ·实验方案 | 第27-29页 |
| ·研究路线及工艺流程 | 第29-30页 |
| ·实验过程 | 第30-33页 |
| 第三章 结果与讨论 | 第33-48页 |
| ·碱性液腐蚀冶金多晶硅表面的形貌分析 | 第33-38页 |
| ·冶金多晶硅表面织构的扫描电镜分析 | 第33-35页 |
| ·冶金多晶硅的原子力显微镜分析 | 第35-37页 |
| ·冶金多晶硅表面织构的粗糙度分析 | 第37-38页 |
| ·冶金多晶硅表面反射率的测试分析 | 第38-41页 |
| ·腐蚀时间对硅表面织构反射率的影响 | 第38-40页 |
| ·三组腐蚀条件制备的冶金多晶硅表面织构的反射率 | 第40页 |
| ·酸、碱性体系腐蚀制备冶金多晶硅表面织构的反射率 | 第40-41页 |
| ·碱性腐蚀制表面织构的冶金多晶硅电池 | 第41-45页 |
| ·碱性腐蚀表面织构的冶金多晶硅电池的工艺流程 | 第42页 |
| ·碱性腐蚀表面织构的冶金多晶硅电池性能分析 | 第42-45页 |
| ·碱性腐蚀制作冶金多晶硅织构的太阳电池的量子效率 | 第45-48页 |
| 第四章 结论 | 第48-49页 |
| 参考文献 | 第49-51页 |
| 致谢 | 第51-52页 |
| 攻读硕士学位期间获得的科研成果 | 第52页 |
| 攻读硕士学位期间参加的科研课题及学术会议 | 第52页 |
