| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-24页 |
| ·序言 | 第8-10页 |
| ·酞菁化合物概论 | 第10-13页 |
| ·对称稀土酞菁配合物的合成 | 第10页 |
| ·酞菁配合物的谱学性质 | 第10-13页 |
| ·酞菁静电自组装膜概论 | 第13-16页 |
| ·静电自组装膜简介 | 第13-15页 |
| ·酞菁自组装膜的研究进展 | 第15-16页 |
| ·酞菁化合物的电化学性能研究 | 第16-20页 |
| ·循环伏安法 | 第16-18页 |
| ·计时电流法 | 第18页 |
| ·玻碳电极 | 第18-19页 |
| ·化学修饰电极 | 第19-20页 |
| ·选题的意义 | 第20-21页 |
| ·本文的研究内容 | 第21-22页 |
| ·四磺酸基稀土酞菁的合成及表征 | 第21页 |
| ·四磺酸基稀土酞菁交替结构多层自组装超薄膜的制备 | 第21页 |
| ·四磺酸基稀土酞菁交替结构多层自组装超薄膜的性能测试和形貌表征 | 第21页 |
| ·四磺酸基稀土酞菁修饰玻碳电极的电化学性能研究 | 第21-22页 |
| ·实验所用药品和仪器 | 第22-24页 |
| 第二章 四磺酸基酞菁钆交替结构自组装多层超薄膜的制备及电化学性能研究 | 第24-42页 |
| ·四磺酸基酞菁钆的合成 | 第24页 |
| ·氯化钆的制备 | 第24页 |
| ·4-磺酸基邻苯二甲酸的制备 | 第24页 |
| ·四磺酸基酞菁钆的制备 | 第24页 |
| ·四磺酸基酞菁钆的表征 | 第24-26页 |
| ·四磺酸基酞菁钆的红外光谱图 | 第25页 |
| ·四磺酸基酞菁钆的紫外-可见吸收光谱 | 第25-26页 |
| ·重氮树脂(DAR)的合成 | 第26页 |
| ·四磺酸基酞菁钆交替结构多层自组装超薄膜的制备 | 第26-28页 |
| ·酞菁钆交替结构多层自组装超薄膜组装时间的研究 | 第26-27页 |
| ·基于不同聚电解质的酞菁钆交替结构多层自组装超薄膜的制备 | 第27-28页 |
| ·四磺酸基酞菁钆交替结构多层自组装超薄膜的紫外-可见光谱表征 | 第28-31页 |
| ·PEI/GdTs(Pc)_2自组装薄膜组装过程的紫外-可见光谱跟踪分析 | 第29页 |
| ·DAR/GdTs(Pc)_2自组装薄膜组装过程的紫外-可见光谱跟踪分析 | 第29-31页 |
| ·四磺酸基酞菁钆交替结构多层自组装超薄膜的稳定性研究 | 第31-32页 |
| ·四磺酸基酞菁钆交替结构多层自组装超薄膜的形貌研究 | 第32-34页 |
| ·四磺酸基酞菁钆修饰玻碳电极的电化学性能研究 | 第34-42页 |
| ·自组装膜修饰玻碳电极的制备原理 | 第34-35页 |
| ·玻碳电极的前期处理 | 第35-36页 |
| ·玻碳电极表面4-ABA的修饰 | 第36页 |
| ·GCE/4-ABA/DAR/GdTs(Pc)_2修饰电极的制备 | 第36-37页 |
| ·GCE/4-ABA/DAR/GdTs(Pc)_2修饰电极对抗坏血酸的电化学性能研究 | 第37-42页 |
| 第三章 四磺酸基酞菁镧交替结构自组装多层超薄膜的制备及电化学性能研究 | 第42-54页 |
| ·四磺酸基酞菁镧的制备和表征 | 第42页 |
| ·氯化镧的制备 | 第42页 |
| ·四磺酸基酞菁镧的制备 | 第42页 |
| ·四磺酸基酞菁镧的表征 | 第42-44页 |
| ·四磺酸基酞菁镧的红外光谱图 | 第42-43页 |
| ·四磺酸基酞菁镧的紫外-可见吸收光谱 | 第43-44页 |
| ·四磺酸基酞菁镧交替结构多层自组装超薄膜的制备 | 第44-46页 |
| ·基于不同聚电解质的酞菁镧交替结构多层自组装超薄膜的制备 | 第44页 |
| ·四磺酸基酞菁镧交替结构多层自组装超薄膜的紫外-可见光谱表征 | 第44-46页 |
| ·四磺酸基酞菁镧交替结构多层自组装超薄膜的稳定性研究 | 第46-47页 |
| ·四磺酸基酞菁镧交替结构多层自组装超薄膜的形貌研究 | 第47-49页 |
| ·四磺酸基稀土酞菁镧修饰玻碳电极的电化学性能研究 | 第49-54页 |
| ·GCE/4-ABA/DAR/LaTs(Pc)_2修饰电极的制备 | 第49页 |
| ·GCE/4-ABA/DAR/LaTs(Pc)_2修饰电极对亚硝酸钠的电化学性能研究 | 第49-54页 |
| 第四章 结论 | 第54-55页 |
| 致谢 | 第55-56页 |
| 参考文献 | 第56-63页 |
| 附录 | 第63页 |
