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SRAM存储器总剂量效应研究

摘要第1-4页
Abstract第4-7页
第一章 绪论第7-13页
   ·研究背景第7-8页
     ·SRAM 简述第7-8页
     ·SRAM 最新发展第8页
   ·空间环境及辐照效应分析第8-10页
     ·空间环境第8-9页
     ·辐射效应第9-10页
   ·SRAM 的总剂量效应研究现状第10-12页
     ·国外研究现状第10-11页
     ·国内研究现状第11-12页
   ·论文主要工作和组织安排第12-13页
第二章 辐射损伤机理第13-29页
   ·Si-SiO_2界面电荷第13-16页
     ·可动离子电荷第13-14页
     ·界面陷阱电荷第14-15页
     ·氧化层固定电荷第15页
     ·氧化层陷阱电荷第15-16页
   ·SiO_2介质材料辐射损伤机理第16-17页
     ·电子-空穴对第16-17页
     ·界面态影响第17页
   ·MOS 器件电参数变化第17-23页
     ·阈值电压第18-19页
     ·漏电流第19-21页
     ·跨导第21-22页
     ·延迟第22-23页
   ·总剂量效应影响因素第23-25页
   ·总剂量偏置方法第25-26页
   ·本章小节第26-29页
第三章 SRAM 及敏感性分析第29-43页
   ·存储单元第30-34页
     ·基本操作第31-33页
     ·存储单元的辐照失效机制第33-34页
   ·灵敏放大器第34-38页
     ·灵敏放大器工作原理第34-37页
     ·灵敏放大器失效原理第37-38页
   ·其他外围电路第38-40页
     ·预充电电路第38-39页
     ·译码电路第39页
     ·地址变化检测电路第39-40页
     ·外围电路的总剂量效应第40页
   ·IS61LV51216 的总剂量敏感性分析第40-42页
   ·本章小节第42-43页
第四章 SRAM 总剂量试验第43-55页
   ·试验方案设计第43-44页
   ·硬件设计第44-47页
   ·软件设计第47-51页
     ·控制代码第48-49页
     ·通信代码第49-50页
     ·上位机界面第50-51页
   ·试验及其结果分析第51-53页
     ·试验环境第51页
     ·开展试验第51-52页
     ·试验结果及分析第52-53页
   ·本章小节第53-55页
第五章 总结与展望第55-57页
   ·工作总结第55页
   ·工作展望第55-57页
致谢第57-59页
参考文献第59-62页

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