| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-15页 |
| ·课题研究的目的与意义 | 第10-11页 |
| ·国内外发展现状 | 第11-13页 |
| ·本论文的研究内容 | 第13-15页 |
| 第2章 气相沉积光纤预制棒的制造工艺 | 第15-24页 |
| ·管外法预制棒制造工艺 | 第15-17页 |
| ·OVD 预制棒原理与工艺 | 第15-16页 |
| ·VAD 预制棒原理与工艺 | 第16-17页 |
| ·管内法预制棒制造工艺 | 第17-20页 |
| ·PCVD 预制棒原理与工艺 | 第17-18页 |
| ·MCVD 预制棒原理与工艺 | 第18-20页 |
| ·预制棒制造的复合工艺 | 第20-22页 |
| ·不同光纤预制棒制造过程的性能比较 | 第22-23页 |
| ·本章小结 | 第23-24页 |
| 第3章 MCVD 沉积机床系统的总体方案与关键技术 | 第24-39页 |
| ·光纤预制棒沉积机床总体方案及技术参数 | 第24-27页 |
| ·沉积机床结构设计 | 第24-27页 |
| ·沉积机床技术参数 | 第27页 |
| ·MCVD 机床系统的关键技术 | 第27-28页 |
| ·高温加热炉单元 | 第28-35页 |
| ·加热炉外壳体的设计 | 第28-29页 |
| ·发热元件的设计 | 第29-31页 |
| ·保温材料的选择 | 第31页 |
| ·温度检测装置的选择 | 第31-35页 |
| ·加热炉实际控温结果分析 | 第35页 |
| ·废气处理系统 | 第35-38页 |
| ·有毒尾气危害及常用的处理方法 | 第35-36页 |
| ·废气处理装置设计与实现 | 第36-38页 |
| ·本章小结 | 第38-39页 |
| 第4章 MCVD 控制与供料系统设计 | 第39-55页 |
| ·MCVD 控制系统的整体要求 | 第39页 |
| ·基于 PLC 的自动控制系统 | 第39-43页 |
| ·原料供给系统 | 第43-54页 |
| ·MCVD 原料供给方式概述 | 第43-44页 |
| ·原料气体供给管路设计 | 第44-45页 |
| ·质量流量计 | 第45-46页 |
| ·原料瓶恒温槽机械设计 | 第46-47页 |
| ·恒温槽温度电控系统设计 | 第47-53页 |
| ·恒温槽实际运行数据测试 | 第53-54页 |
| ·本章小结 | 第54-55页 |
| 第5章 基于 MCVD 研发设备的单模光纤制造 | 第55-64页 |
| ·普通单模光纤的波导结构设计 | 第55-56页 |
| ·光纤的波导结构 | 第55页 |
| ·光纤的主要性能参数 | 第55-56页 |
| ·MCVD 单模光纤制造流程 | 第56-62页 |
| ·MCVD 工艺化学反应阶段 | 第56-58页 |
| ·MCVD 离子沉积与烧结 | 第58-60页 |
| ·石英管的熔缩 | 第60页 |
| ·拉丝工艺 | 第60-62页 |
| ·MCVD 单模光纤的材料组成和结构 | 第62-63页 |
| ·本章小结 | 第63-64页 |
| 结论 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-69页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文和取得的科研成果 | 第69-70页 |
| 致谢 | 第70页 |