| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-16页 |
| ·研究背景及意义 | 第8-9页 |
| ·SrTiO_3的晶体结构、性质和应用 | 第9-12页 |
| ·SrTiO_3的晶体结构 | 第9-10页 |
| ·SrTiO_3的性质 | 第10-11页 |
| ·SrTiO_3的应用 | 第11-12页 |
| ·SrTiO_3材料的研究进展 | 第12-13页 |
| ·国外研究进展 | 第12-13页 |
| ·国内研究进展 | 第13页 |
| ·主要研究内容 | 第13-16页 |
| 第二章 SrTiO_3薄膜的制备方法及测试表征原理 | 第16-22页 |
| ·SrTiO_3薄膜常用的制备方法 | 第16-19页 |
| ·物理气相沉积 | 第16页 |
| ·溅射沉积法 | 第16-17页 |
| ·分子束外延 | 第17页 |
| ·自组装单层膜技术 | 第17页 |
| ·化学气相沉积 | 第17-18页 |
| ·水热电化学法 | 第18页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第18-19页 |
| ·薄膜的表征方法及性能测试 | 第19-21页 |
| ·X射线衍射分析 | 第19页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第19-20页 |
| ·X射线能量色散谱 | 第20页 |
| ·发光特性测试 | 第20页 |
| ·电学特性测试 | 第20-21页 |
| ·本章小结 | 第21-22页 |
| 第三章 溶胶-凝胶制备SrTiO_3薄膜 | 第22-36页 |
| ·实验原理 | 第22-27页 |
| ·制备薄膜的实验原理 | 第22-23页 |
| ·掺杂的实验原理 | 第23-24页 |
| ·发光机理 | 第24-27页 |
| ·实验设计 | 第27-30页 |
| ·实验流程 | 第27-28页 |
| ·实验原料和试验仪器 | 第28页 |
| ·衬底选择及衬底清洗 | 第28-29页 |
| ·溶胶的制备 | 第29页 |
| ·涂镀 | 第29-30页 |
| ·影响薄膜质量的因素 | 第30-33页 |
| ·冰乙酸 | 第30-31页 |
| ·螯合剂 | 第31-32页 |
| ·陈化条件 | 第32页 |
| ·退火时间 | 第32-33页 |
| ·本章小结 | 第33-36页 |
| 第四章 掺杂SrTiO_3的制备及其性能分析 | 第36-56页 |
| ·掺杂实验的实验设计 | 第36-38页 |
| ·杂质选取 | 第36-37页 |
| ·实验设计 | 第37页 |
| ·掺杂SrTiO_3薄膜的制备 | 第37-38页 |
| ·Mg掺杂SrTiO_3薄膜的性能研究 | 第38-44页 |
| ·Mg掺杂SrTiO_3薄膜的结构分析 | 第38-39页 |
| ·Mg掺杂SrTiO_3薄膜的形貌分析 | 第39-41页 |
| ·掺杂浓度为10at.%的Mg掺杂SrTiO_3薄膜的成分分析 | 第41-42页 |
| ·Mg掺杂SrTiO_3薄膜的发光性能 | 第42-43页 |
| ·Mg掺杂SrTiO_3薄膜的电学性能 | 第43-44页 |
| ·Al掺杂SrTiO_3薄膜的性能研究 | 第44-49页 |
| ·Al掺杂SrTiO_3薄膜结构分析 | 第44-45页 |
| ·Al掺杂SrTiO_3薄膜的形貌分析 | 第45-46页 |
| ·掺杂浓度为10at.%的Al掺杂SrTiO_3薄膜的成分分析 | 第46-47页 |
| ·Al掺杂SrTiO_3薄膜的发光性能 | 第47-48页 |
| ·Al掺杂SrTiO_3薄膜的电学性能 | 第48-49页 |
| ·La掺杂SrTiO_3薄膜的性能研究 | 第49-54页 |
| ·La掺杂SrTiO_3薄膜的结构分析 | 第49-50页 |
| ·La掺杂SrTiO_3薄膜的形貌分析 | 第50-51页 |
| ·掺杂浓度为10at.%的La掺杂SrTiO_3薄膜的成分分析 | 第51-52页 |
| ·La掺杂SrTiO_3薄膜的光学性能 | 第52-53页 |
| ·La掺杂SrTiO_3薄膜的电学性能 | 第53-54页 |
| ·本章小结 | 第54-56页 |
| 第五章 全文总结与展望 | 第56-58页 |
| ·工作总结 | 第56页 |
| ·展望 | 第56-58页 |
| 参考文献 | 第58-64页 |
| 攻读硕士学位期间获得的学术成果 | 第64-66页 |
| 致谢 | 第66页 |
