| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 第一章 引言 | 第10-12页 |
| ·软磁薄膜材料 | 第10页 |
| ·研究现状 | 第10-11页 |
| ·研究动机 | 第11-12页 |
| 第二章 理论基础 | 第12-25页 |
| ·磁学基础知识 | 第12-15页 |
| ·材料的磁化 | 第12-13页 |
| ·物质的磁性分类 | 第13-15页 |
| ·抗磁性 | 第13页 |
| ·顺磁性 | 第13-14页 |
| ·亚铁磁性 | 第14页 |
| ·反铁磁性 | 第14页 |
| ·铁磁性 | 第14-15页 |
| ·磁各向异性理论 | 第15-21页 |
| ·磁晶各向异性 | 第15-18页 |
| ·形状各项异性 | 第18-20页 |
| ·感生磁各向异性 | 第20页 |
| ·应力各向异性 | 第20-21页 |
| ·磁化翻转模型 | 第21-25页 |
| 第三章 样品的制备与测试 | 第25-38页 |
| ·薄膜样品的制备 | 第25-30页 |
| ·溅射镀膜的原理与方法 | 第25-27页 |
| ·光刻的原理与方法 | 第27-29页 |
| ·光刻工艺简介 | 第27页 |
| ·光刻工艺流程 | 第27-29页 |
| ·样品的制备及处理 | 第29-30页 |
| ·薄膜性能表征方法 | 第30-38页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第30-31页 |
| ·振动样品磁强计(VSM) | 第31-33页 |
| ·磁光克尔效应(NanoMoke)系统 | 第33-35页 |
| ·磁力显微镜 | 第35-36页 |
| ·台阶仪 | 第36-37页 |
| ·高频磁性的测量 | 第37-38页 |
| 第四章 光刻对Cu/FeTa/Ta薄膜磁性的影响 | 第38-62页 |
| ·连续的Cu/FeTa/Ta薄膜的结构和磁性 | 第38-40页 |
| ·条带长度和宽度对Cu/FeTa/Ta薄膜软磁性能的影响 | 第40-51页 |
| ·条带长度对Cu/FeTa/Ta薄膜软磁性能的影响 | 第40-45页 |
| ·条带宽度对Cu/FeTa/Ta薄膜软磁性能的影响 | 第45-48页 |
| ·条带的长宽比对Cu/FeTa/Ta样品各向异性场的影响 | 第48-51页 |
| ·Cu/FeTa/Ta薄膜样品磁化翻转机制的研究 | 第51-60页 |
| ·Cu/FeTa/Ta薄膜样品高频磁性的研究 | 第60-62页 |
| 第五章 结论 | 第62-64页 |
| 参考文献 | 第64-66页 |
| 附录 | 第66-67页 |
| 致谢 | 第67页 |
