| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-10页 |
| 第1章 引言 | 第10-13页 |
| ·研究背景和意义 | 第10-11页 |
| ·论文的内容和结构 | 第11页 |
| ·主要创新成果 | 第11-13页 |
| 第2章 文献综述 | 第13-29页 |
| ·背景介绍：液相前驱体浸渗技术 | 第13-15页 |
| ·浸渗工艺理论研究 | 第15-20页 |
| ·浸渗动力学研究：理论模型 | 第15-16页 |
| ·浸渗动力学研究：浸渗速率与传质过程 | 第16-18页 |
| ·坯体的种类 | 第18-20页 |
| ·前驱体种类 | 第20页 |
| ·液相前驱体浸渗工艺的应用及优势 | 第20-28页 |
| ·通过填充作用进行缺陷修复和促进致密化 | 第20-22页 |
| ·块体均匀少量掺杂 | 第22-25页 |
| ·实现表面强化 | 第25-26页 |
| ·制备梯度材料 | 第26-27页 |
| ·结合模板法制备功能材料 | 第27-28页 |
| ·结语与展望 | 第28-29页 |
| 第3章 实验原料、实验方法和实验设备 | 第29-35页 |
| ·实验原料 | 第29-31页 |
| ·陶瓷粉体 | 第29页 |
| ·注射成型用有机粘结剂 | 第29-31页 |
| ·浸渗用溶液前驱体 | 第31页 |
| ·分析和测试方法 | 第31-33页 |
| ·坯体表征 | 第31-32页 |
| ·烧结体表征 | 第32页 |
| ·力学性能测试 | 第32页 |
| ·光学性能测试 | 第32-33页 |
| ·实验设备 | 第33-35页 |
| ·注射成型设备 | 第33页 |
| ·其它实验设备 | 第33-35页 |
| 第4章 浸渗亲水坯体法制备彩色氧化锆陶瓷 | 第35-47页 |
| ·引言 | 第35-36页 |
| ·实验和研究方法 | 第36-38页 |
| ·制备注射成型坯体 | 第36页 |
| ·制备浸渗溶液和浸渗过程 | 第36-38页 |
| ·结果与讨论 | 第38-45页 |
| ·显微组织与相组成分析 | 第38-39页 |
| ·浸渗时间、温度对改性层深度的影响 | 第39-41页 |
| ·浸渗引入的着色相沿深度方向的分布行为 | 第41-42页 |
| ·干燥制度对改性层深度的影响：传质机理的分析 | 第42-45页 |
| ·浸渗工艺：一种制备彩色氧化锆陶瓷部件的普适性方法 | 第45页 |
| ·本章小结 | 第45-47页 |
| 第5章 浸渗憎水性坯体制备 ZrO_2-CoAl_2O_4复合材料 | 第47-58页 |
| ·引言 | 第47-48页 |
| ·实验和研究方法 | 第48-49页 |
| ·溶液中乙醇含量对憎水型坯体浸渗行为的影响 | 第49-54页 |
| ·乙醇含量对润湿行为的影响 | 第49-50页 |
| ·浸渗过程驱动力分析 | 第50-51页 |
| ·乙醇含量对浸渗增重行为的影响 | 第51-52页 |
| ·乙醇含量对改性层深度的影响 | 第52-54页 |
| ·制备的 ZrO_2-CoAl_2O_4复合材料的表征 | 第54-57页 |
| ·XRD 和显微组织分析 | 第54-55页 |
| ·力学性能表征 | 第55-56页 |
| ·光学性能表征 | 第56-57页 |
| ·展望 | 第57页 |
| ·本章小结 | 第57-58页 |
| 第6章 浸渗制备微米－纳米 Al_2O_3-ZrO_2复合材料 | 第58-78页 |
| ·引言 | 第58-59页 |
| ·实验过程 | 第59-61页 |
| ·浸渗法引入均匀分布的低含量、纳米尺度的氧化锆晶粒 | 第61-65页 |
| ·均匀性表征 | 第61-62页 |
| ·SEM 与硬度表征 | 第62-64页 |
| ·浸渗工艺相对球磨法的优势分析 | 第64-65页 |
| ·浸渗法制备 Al_2O_3-ZrO_2复合材料 | 第65-77页 |
| ·干燥制度对引入的 ZrO_2量的影响 | 第66-69页 |
| ·ZrO_2的晶粒尺寸随引入 ZrO_2引入量的变化 | 第69-71页 |
| ·相组成分析 | 第71-72页 |
| ·沿浸渗深度方向的 ZrO_2分布均匀性表征 | 第72-74页 |
| ·力学性能表征 | 第74-77页 |
| ·本章小结 | 第77-78页 |
| 第7章 影响浸渗引入组元量与分布均匀性的因素 | 第78-87页 |
| ·引言 | 第78页 |
| ·实验和研究方法 | 第78-79页 |
| ·理论引入量的估算 | 第79页 |
| ·溶液浓度对引入量与分布均匀性的影响 | 第79-82页 |
| ·坯体厚度对引入量与分布均匀性的影响 | 第82-83页 |
| ·真空处理、表面暴露对浸渗结果的影响 | 第83-86页 |
| ·本章小结与展望 | 第86-87页 |
| 第8章 浸渗坯体引入微量烧结助剂制备高性能半透明氧化铝陶瓷 | 第87-98页 |
| ·引言 | 第87-89页 |
| ·实验过程 | 第89-90页 |
| ·坯体的制备 | 第89页 |
| ·浸渗处理 | 第89页 |
| ·球磨对比样品的制备 | 第89-90页 |
| ·烧结 | 第90页 |
| ·表征方法 | 第90页 |
| ·浸渗引入 MgO 对显微组织及光学性能的影响 | 第90-93页 |
| ·Y_2O_3对显微组织及光学性能的影响 | 第93-96页 |
| ·浸渗共掺杂 MgO+La_2O_3+Y_2O_3对组织与性能的影响 | 第96-97页 |
| ·本章小结 | 第97-98页 |
| 第9章 结论 | 第98-99页 |
| 参考文献 | 第99-106页 |
| 致谢 | 第106-108页 |
| 个人简历、在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第108-109页 |
