摘要 | 第1-5页 |
ABSTRACT | 第5-9页 |
第一章 绪论 | 第9-21页 |
·钙钛矿氧化物材料 | 第9-14页 |
·(Pb,Sr)TiO_3薄膜研究概述 | 第10-11页 |
·SrRuO_3薄膜研究概述 | 第11-12页 |
·(Ba,Sr)TiO_3薄膜研究概述 | 第12-13页 |
·LaBaCoO_3薄膜研究概述 | 第13-14页 |
·应力和缺陷对钙钛矿氧化物薄膜性能影响的研究进展 | 第14-19页 |
·钙钛矿氧化物应力释放机制研究进展 | 第19-20页 |
·论文选题及研究方案 | 第20-21页 |
第二章 实验原理和方法 | 第21-35页 |
·钙钛矿氧化物薄膜的脉冲激光沉积(PLD)制备方法简介 | 第21-23页 |
·晶体的结构、应力及缺陷 | 第23-28页 |
·钙钛矿氧化物的晶体结构 | 第23-25页 |
·薄膜的缺陷 | 第25-26页 |
·薄膜中的应力及薄膜的外延生长 | 第26-28页 |
·钙钛矿氧化物薄膜的X射线分析 | 第28-35页 |
·X衍射仪介绍 | 第28-29页 |
·X射线衍射的基本原理ω-2θ扫描和摇摆曲线的测定方法 | 第29-30页 |
·ω-2θ扫描和摇摆曲线的测定方法 | 第30页 |
·φ扫描和倒异空间(Reciprocal space map,RSM)扫描 | 第30-33页 |
·薄膜中缺陷密度的计算 | 第33-35页 |
第三章 不同降温速率(Pb,Sr)TiO_3/NdGaO_3应力释放机制研究 | 第35-43页 |
·引言 | 第35-36页 |
·实验设计 | 第36页 |
·实验目的 | 第36页 |
·实验方法 | 第36页 |
·实验结果和讨论 | 第36-42页 |
·快速冷却和慢速冷却过程中缺陷的变化 | 第38-39页 |
·应力释放过程的探讨 | 第39-42页 |
·小结 | 第42-43页 |
第四章 不同沉积温度SrRuO_3/LaAlO_3应力释放机制研究 | 第43-50页 |
·实验设计 | 第44页 |
·实验目的 | 第44页 |
·实验过程 | 第44页 |
·实验结果和讨论 | 第44-49页 |
·沉积温度对晶格常数的影响 | 第45-46页 |
·不同沉积温度情况下薄膜缺陷的变化 | 第46-48页 |
·应力释放过程的探讨 | 第48-49页 |
·小结 | 第49-50页 |
第五章 LaAlO_3基不同起始层BaTiO_3/SrTiO_3多层膜应力释放机制研究 | 第50-56页 |
·实验 | 第50-51页 |
·实验结果和讨论 | 第51-55页 |
·不同起始层对晶格大小的影响 | 第52页 |
·不同起始层对薄膜缺陷密度的影响 | 第52-54页 |
·应力释放的探讨 | 第54-55页 |
·小结 | 第55-56页 |
第六章 不同基底上LaBaCoO_3薄膜应力释放机制研究 | 第56-59页 |
·不同基片上生长的LBCO薄膜的结构 | 第56-57页 |
·实验结果和讨论 | 第57-58页 |
·小结 | 第58-59页 |
第七章 结论 | 第59-60页 |
致谢 | 第60-61页 |
参考文献 | 第61-67页 |
攻读硕士期间取得的成果 | 第67页 |