界面调控铁电薄膜电容器肖特基势垒及其瞬态电流特性研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| abstract | 第5-6页 |
| 1.绪论 | 第10-20页 |
| 1.1 铁电材料概述 | 第10-14页 |
| 1.2 铁电材料发展历程 | 第14-15页 |
| 1.3 阻变式存储器简介 | 第15-18页 |
| 1.4 研究背景和内容 | 第18-20页 |
| 2.铁电薄膜的制备及测试表征方法 | 第20-33页 |
| 2.1 PZT薄膜的制备研究 | 第20-24页 |
| 2.1.1 脉冲激光沉积法(PLD) | 第20-22页 |
| 2.1.2 溅射法 | 第22-23页 |
| 2.1.3 溶胶-凝胶法 | 第23-24页 |
| 2.2 实验仪器及分析测试方法 | 第24-33页 |
| 2.2.1 相结构XRD分析 | 第24-25页 |
| 2.2.2 扫描电镜分析 | 第25页 |
| 2.2.3 原子力显微镜分析 | 第25-31页 |
| 2.2.4 方块电阻测试 | 第31页 |
| 2.2.5 铁电特性分析 | 第31-33页 |
| 3.PZT铁电电容器的制备 | 第33-46页 |
| 3.1 前驱体溶液的配制 | 第33-35页 |
| 3.1.1 前驱体组分分析 | 第33页 |
| 3.1.2 前驱体反应 | 第33-34页 |
| 3.1.3 前驱体实验流程 | 第34-35页 |
| 3.2 衬底电极的制备 | 第35-39页 |
| 3.2.1 Pt/Ti电极的制备 | 第36-37页 |
| 3.2.2 镍酸镧导电薄膜的制备 | 第37-39页 |
| 3.3 旋涂法制备PZT薄膜 | 第39-40页 |
| 3.3.1 基片的清洗 | 第39-40页 |
| 3.3.2 凝胶旋涂 | 第40页 |
| 3.3.3 薄膜热处理 | 第40页 |
| 3.4 上电极的加工 | 第40-43页 |
| 3.4.1 上电极的淀积 | 第40页 |
| 3.4.2 上电极的图形化 | 第40-43页 |
| 3.5 薄膜刻蚀 | 第43-45页 |
| 3.5.1 上电极的刻蚀 | 第43-44页 |
| 3.5.2 PZT薄膜的刻蚀 | 第44-45页 |
| 3.6 本章小结 | 第45-46页 |
| 4.铁电电容器微观结构表征 | 第46-54页 |
| 4.1 相结构XRD晶向分析 | 第46-48页 |
| 4.1.1 镍酸镧薄膜晶向分析 | 第46-47页 |
| 4.1.2 PZT铁电薄膜晶向分析 | 第47-48页 |
| 4.2 形貌纹理分析 | 第48-50页 |
| 4.2.1 LNO薄膜纹理图 | 第48-49页 |
| 4.2.2 PZT薄膜纹理图 | 第49-50页 |
| 4.3 扫描电镜分析 | 第50-52页 |
| 4.4 原子力显微镜微观形貌分析 | 第52页 |
| 4.5 本章小结 | 第52-54页 |
| 5.铁电电容器电学特性表征 | 第54-63页 |
| 5.1 PZT铁电电容器电滞回线测试与分析 | 第54-55页 |
| 5.2 PZT铁电电容器瞬态电流测试与分析 | 第55-60页 |
| 5.3 PZT铁电电容器CV特性测试与分析 | 第60页 |
| 5.4 PZT铁电电容器疲劳特性测试与分析 | 第60-61页 |
| 5.5 PZT铁电电容器PFM压电性测试与分析 | 第61页 |
| 5.6 本章小结 | 第61-63页 |
| 6.总结与展望 | 第63-65页 |
| 6.1 总结 | 第63页 |
| 6.2 展望 | 第63-65页 |
| 参考文献 | 第65-71页 |
| 硕士期间发表的论文 | 第71-72页 |
| 致谢 | 第72-73页 |
