双靶共沉积镀制复合膜的成分均匀性研究
| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-13页 |
| 第1章 绪论 | 第13-17页 |
| ·研究的背景与目的 | 第13-14页 |
| ·研究的意义 | 第14页 |
| ·工作基础与研究思路 | 第14-15页 |
| ·研究的主要内容 | 第15-17页 |
| 第2章 多源共沉积系统及膜厚均匀性研究现状 | 第17-33页 |
| ·多源共沉积真空镀膜技术 | 第17-20页 |
| ·对称平直双靶溅射系统 | 第17页 |
| ·对称倾斜双靶溅射系统 | 第17-19页 |
| ·多靶溅射系统 | 第19-20页 |
| ·膜厚均匀性 | 第20-31页 |
| ·平面源与固定平行平面工件架系统 | 第20-22页 |
| ·平面源和固定倾斜平面工件架系统 | 第22-24页 |
| ·平面源与旋转平行平面工件架系统 | 第24页 |
| ·平面源与倾斜的旋转平面工件架系统 | 第24-25页 |
| ·平面源与离轴沉积系统 | 第25-27页 |
| ·单轴驱动的基片双轴或三轴旋转系统 | 第27页 |
| ·平面源和非平面工件架系统 | 第27-29页 |
| ·行星工件架沉积系统 | 第29-31页 |
| ·本章小结 | 第31-33页 |
| 第3章 共沉积计算模型的建立及分析 | 第33-77页 |
| ·基本定义与假设 | 第33-35页 |
| ·Y轴方向有偏心距的圆形双靶的共沉积系统 | 第35-37页 |
| ·X轴和Y轴方向都有偏心距的圆形双靶的共沉积系统 | 第37-38页 |
| ·Y轴方向有偏心距的圆环型双靶的共沉积系统 | 第38-40页 |
| ·膜厚分布均匀性的计算与影响因素分析 | 第40-60页 |
| ·膜厚均匀性的计算 | 第40-41页 |
| ·模型讨论 | 第41-44页 |
| ·靶基距的影响 | 第44-46页 |
| ·Y轴方向偏心距的影响 | 第46-49页 |
| ·倾斜角的影响 | 第49-53页 |
| ·X轴方向偏心距的影响 | 第53-58页 |
| ·参数的优化 | 第58-60页 |
| ·成分均匀性的计算与分析 | 第60-71页 |
| ·成分均匀性的计算 | 第60-61页 |
| ·基片半径的影响 | 第61-63页 |
| ·靶基距的影响 | 第63-65页 |
| ·Y轴方向偏心距的影响 | 第65-67页 |
| ·靶倾斜角的影响 | 第67-68页 |
| ·X轴方向偏心距的影响 | 第68-71页 |
| ·行星磁控溅射镀膜的结构模型 | 第71-75页 |
| ·装置与结构 | 第71-72页 |
| ·工作原理 | 第72-73页 |
| ·结构特点 | 第73页 |
| ·运动轨迹 | 第73-75页 |
| ·本章小结 | 第75-77页 |
| 第4章 复合薄膜的实验制备和检测分析 | 第77-91页 |
| ·实验设备介绍 | 第77-80页 |
| ·实验流程 | 第80-85页 |
| ·主要工艺参数 | 第80-84页 |
| ·实验材料的选择 | 第84页 |
| ·基片预处理 | 第84页 |
| ·制备Nb/Cr复合薄膜的实验步骤 | 第84-85页 |
| ·样品制备 | 第85-86页 |
| ·实验参数 | 第85-86页 |
| ·实验设计 | 第86页 |
| ·检测与分析 | 第86-89页 |
| ·本章小结 | 第89-91页 |
| 第5章 双源共沉积复合成分材料的制备方法 | 第91-99页 |
| ·装置与方法 | 第91-93页 |
| ·物理模型 | 第93-94页 |
| ·计算模型 | 第94-96页 |
| ·均匀性分析 | 第96-98页 |
| ·本章小结 | 第98-99页 |
| 第6章 结论与展望 | 第99-103页 |
| ·结论 | 第99-101页 |
| ·展望 | 第101-103页 |
| 参考文献 | 第103-111页 |
| 致谢 | 第111-113页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第113-115页 |
| 附录 | 第115-121页 |
