首页--工业技术论文--一般工业技术论文--工业通用技术与设备论文--薄膜技术论文

Bi3.15Nd0.85Ti3O12-CoFe2O4和DyMnO3多铁性薄膜的制备和表征

摘要第1-5页
Abstract第5-9页
第一章 绪论第9-24页
   ·引言第9-10页
   ·多铁性材料的概念第10-15页
     ·铁电材料第10-11页
     ·铁磁材料第11-12页
     ·多铁性材料第12-13页
     ·磁电效应第13-14页
     ·磁性和铁电性共存的限制条件第14页
     ·磁性和铁电性共存的机制第14-15页
   ·磁电复合材料第15-17页
     ·两相材料的选择第15-16页
     ·磁电复合材料的制备第16页
     ·磁电复合材料的结构第16-17页
   ·稀土锰氧化物RMnO_3第17-20页
     ·稀土锰氧化物的结构第17-18页
     ·稀土锰氧化物的磁性第18-20页
   ·本论文的选题思想和主要内容 #12参考文献第20-22页
 参考文献第22-24页
第二章 实验原理与方法第24-32页
   ·脉冲激光沉积(PLD)第24-28页
     ·概述第24-25页
     ·薄膜生长第25-26页
     ·本实验使用的PLD系统第26-28页
   ·分析测试方法第28-31页
     ·结构分析第28-29页
     ·铁电性能测试第29-30页
     ·磁性分析第30-31页
 参考文献第31-32页
第三章 Bi_(3.15)Nd_(0.85)Ti_3O_(12)-CoFe_2O_4复合薄膜的制备和表征第32-44页
   ·化学溶液法制备Bi_(3.15)Nd_(0.85)Ti_3O_(12)-CoFe_2O_4复合薄膜第32-35页
     ·前体溶液的配制第32-33页
     ·热分解温度的确定第33-34页
     ·旋转涂胶法制备薄膜第34-35页
   ·BNT-CFO复合薄膜的结构表征第35-36页
   ·复合薄膜的SEM表征第36-38页
     ·SEM截面图第36页
     ·复合薄膜的表面形貌第36-38页
   ·复合薄膜的电滞回线第38-39页
   ·复合薄膜的磁滞回线第39-40页
   ·复合薄膜的磁电耦合效应第40-41页
   ·总结第41-43页
 参考文献第43-44页
第四章 几种不同衬底上DyMnO_3薄膜的制备和表征第44-57页
   ·脉冲激光沉积法制备DyMnO_3薄膜第45-47页
     ·DyMnO_3靶材的制备第45-46页
     ·衬底的选择第46页
     ·DyMnO_3薄膜的PLD参数设置第46-47页
   ·DyMnO_3的结构表征第47-53页
     ·沉积温度对DyMnO_3薄膜结构的影响第47-48页
     ·氧压对DyMnO_3薄膜结构的影响第48-50页
     ·在其它衬底上生长的DyMnO_3薄膜第50-51页
     ·DyMnO_3薄膜的摇摆曲线第51页
     ·DyMnO_3薄膜的Φ扫描第51-52页
     ·DyMnO_3薄膜的XPS谱第52-53页
   ·DyMnO_3薄膜的磁性表征第53-54页
   ·DyMnO_3薄膜表面的表面形貌第54-55页
   ·总结第55-56页
 参考文献第56-57页
第五章 总结和展望第57-58页
发表文章目录第58-59页
致谢第59-60页

论文共60页,点击 下载论文
上一篇:二氧化钒纳米颗粒薄膜的金属—半导体相变
下一篇:江西省吉安市森林郁闭度动态遥感监测