| 摘要 | 第11-13页 |
| ABSTRACT | 第13-15页 |
| 第一章 绪论 | 第16-51页 |
| 1.1 固体表面的润湿性 | 第16页 |
| 1.2 超疏水表面润湿性理论背景 | 第16-24页 |
| 1.2.1 表面张力与表面自由能 | 第16-17页 |
| 1.2.2 接触角 | 第17页 |
| 1.2.3 YOUNG氏方程 | 第17-18页 |
| 1.2.4 WENZEL模型 | 第18-21页 |
| 1.2.5 CASSIE-BAXTER模型 | 第21-22页 |
| 1.2.6 润湿模型的转换 | 第22-23页 |
| 1.2.7 接触角的滞后 | 第23-24页 |
| 1.3 超疏水现象 | 第24-35页 |
| 1.3.1 自然界中的超疏水表面 | 第24-27页 |
| 1.3.2 人工超疏水表面 | 第27-35页 |
| 1.3.2.1 溶胶凝胶法 | 第27-28页 |
| 1.3.2.2 模板法 | 第28-30页 |
| 1.3.2.3 静电纺丝法 | 第30页 |
| 1.3.2.4 化学气相沉积法 | 第30-31页 |
| 1.3.2.5 相分离法 | 第31-32页 |
| 1.3.2.6 刻蚀法 | 第32-33页 |
| 1.3.2.7 等离子体法 | 第33-34页 |
| 1.3.2.8 其他 | 第34-35页 |
| 1.4 超疏水现象的应用 | 第35-40页 |
| 1.4.1 自清洁 | 第36-37页 |
| 1.4.2 防腐蚀 | 第37页 |
| 1.4.3 防结冰 | 第37-38页 |
| 1.4.4 油水分离 | 第38-39页 |
| 1.4.5 减阻 | 第39-40页 |
| 1.4.6 其他 | 第40页 |
| 1.5 本课题的研究背景和内容 | 第40-43页 |
| 1.5.1 研究背景和意义 | 第40-41页 |
| 1.5.2 研究内容 | 第41-42页 |
| 1.5.3 创新点 | 第42-43页 |
| 参考文献 | 第43-51页 |
| 第二章 实验方法及原理 | 第51-62页 |
| 2.1 主要化学试剂 | 第51-52页 |
| 2.2 主要实验仪器 | 第52-53页 |
| 2.3 本文实验流程图 | 第53-58页 |
| 2.4 表征方法 | 第58-61页 |
| 2.4.1 扫描电子显微镜(SEM) | 第58页 |
| 2.4.2 原子力显微镜(AFM) | 第58页 |
| 2.4.3 紫外/可见/近红外分光光度计(UV/VISIBLE/NIR) | 第58-59页 |
| 2.4.4 雾度测定仪(HAZE METER) | 第59页 |
| 2.4.5 往复式线性耐磨耗仪(RECIPROCATING LINEAR WEAR RESISTANTINSTRUMENT) | 第59页 |
| 2.4.6 接触角测量仪(CONTACT ANGLE METER) | 第59页 |
| 2.4.7 膜层附着力表征 | 第59-61页 |
| 参考文献 | 第61-62页 |
| 第三章 单层透明耐磨超疏水SiO_2薄膜的制备与表征 | 第62-95页 |
| 3.1 引言 | 第62-64页 |
| 3.2 实验部分 | 第64-70页 |
| 3.2.1 酸性SiO_2溶胶的制备 | 第64-65页 |
| 3.2.2 SiO_2分散液的制备 | 第65-67页 |
| 3.2.3 AAS分散液的制备 | 第67页 |
| 3.2.4 单层透明耐磨超疏水SiO_2膜层的制备 | 第67-70页 |
| 3.3 实验结果与讨论 | 第70-93页 |
| 3.3.1 AA样品的性能分析及表征 | 第70-73页 |
| 3.3.2 S样品的性能分析及表征 | 第73-76页 |
| 3.3.3 AAS样品的制备原理 | 第76页 |
| 3.3.4 AAS样品的影响因素 | 第76-89页 |
| 3.3.5 单层透明耐磨超疏水SiO_2膜层的性能分析及表征 | 第89-93页 |
| 3.4 本章小结 | 第93-94页 |
| 参考文献 | 第94-95页 |
| 第四章 多层透明耐磨超疏水SiO_2薄膜的制备与表征 | 第95-117页 |
| 4.1 引言 | 第95-98页 |
| 4.2 实验部分 | 第98-100页 |
| 4.2.1 底层SiO_2溶胶缓冲层的制备 | 第98页 |
| 4.2.2 双层透明耐磨疏水SiO_2膜层的制备 | 第98-99页 |
| 4.2.3 三层透明耐磨疏水SiO_2膜层的制备 | 第99页 |
| 4.2.4 改性SiO_2膜层的制备 | 第99-100页 |
| 4.3 实验结果与讨论 | 第100-115页 |
| 4.3.1 底层SiO_2溶胶缓冲居的厚度选择 | 第100-103页 |
| 4.3.2 双层透明耐磨疏水SiO_2膜层的性能分析及表征 | 第103-107页 |
| 4.3.3 三层透明耐磨疏水SiO_2膜层的性能分析及表征 | 第107-111页 |
| 4.3.4 改性SiO_2膜纪的性能分析及表征 | 第111-115页 |
| 4.4 本章小结 | 第115-116页 |
| 参考文献 | 第116-117页 |
| 第五章结论与展望 | 第117-119页 |
| 致谢 | 第119-120页 |
| 硕士期间发表的论文 | 第120页 |
