| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-12页 |
| 1 绪论 | 第12-21页 |
| ·引言 | 第12页 |
| ·二氧化钒薄膜的光学和电学特性 | 第12-14页 |
| ·氧化钒薄膜的应用 | 第14-17页 |
| ·几种常见的氧化钒薄膜相变机理 | 第17-19页 |
| ·本论文主要内容 | 第19-20页 |
| ·本论文研究的课题项目来源以及课题完成情况 | 第20-21页 |
| 2 非致冷红外探测器用热敏氧化薄膜的制备研究 | 第21-39页 |
| ·离子束溅射法制备非致冷探测器用氧化钒热敏薄膜 | 第21-30页 |
| ·磁控溅射法制备非致冷探测器用氧化钒热敏薄膜 | 第30-38页 |
| ·小结 | 第38-39页 |
| 3 用随机阻抗网络模型模拟氧化钒的电阻-温度特性 | 第39-50页 |
| ·氧化钒随机阻抗网络模型建立的实验基础 | 第39-41页 |
| ·氧化钒随机阻抗网络模型的建立 | 第41-45页 |
| ·氧化钒随机阻抗网络的计算 | 第45-49页 |
| ·小结 | 第49-50页 |
| 4 低相变点纳米二氧化钒薄膜热滞行为的建模与实现 | 第50-61页 |
| ·基于VO_2热滞回线的Preisach模型的建立 | 第50-53页 |
| ·氧化钒Preisach模型的运行规律 | 第53-54页 |
| ·纳米VO_2薄膜热滞回线的模拟与实现 | 第54-59页 |
| ·小结 | 第59-61页 |
| 5 氧化钒薄膜在节能玻璃和光开关的应用 | 第61-80页 |
| ·基于低相变点纳米VO_2在普通玻璃衬底的制备 | 第61-62页 |
| ·膜系的厚度优化 | 第62-66页 |
| ·基于低相变点纳米VO_2在光开关的应用 | 第66-71页 |
| ·热敏氧化钒薄膜热响应时间测试 | 第71-78页 |
| ·小结 | 第78-80页 |
| 6 氧化钒微测辐射热计制作工艺研究 | 第80-100页 |
| ·多孔硅作为牺牲层的优势 | 第81-83页 |
| ·多孔硅的制备过程 | 第83-84页 |
| ·多孔硅的制备研究 | 第84-89页 |
| ·多孔硅的内应力与制备参数关系的研究 | 第89-92页 |
| ·128元氧化钒红外探测器的微桥结构的制作 | 第92-97页 |
| ·微桥结构氧化钒红外探测器的测试系统 | 第97-99页 |
| ·小结 | 第99-100页 |
| 7 总结 | 第100-104页 |
| ·全文总结 | 第100-101页 |
| ·主要创新点 | 第101-102页 |
| ·课题完成情况 | 第102页 |
| ·展望 | 第102-104页 |
| 致谢 | 第104-106页 |
| 参考文献 | 第106-115页 |
| 附录1 攻读博士学位期间发表论文目录 | 第115-117页 |
| 附录2 攻读博士学位期间申请专利目录 | 第117页 |