| 摘要 | 第1-3页 |
| Abstract | 第3-4页 |
| 中文文摘 | 第4-8页 |
| 第1章 绪论 | 第8-24页 |
| ·引言 | 第8-9页 |
| ·染料废水的危害及处理方法 | 第9-13页 |
| ·染料的分类及毒性 | 第9页 |
| ·染料废水的处理技术 | 第9-13页 |
| ·光催化氧化技术概述 | 第13-19页 |
| ·光催化反应的基本原理 | 第13-14页 |
| ·影响光催化反应的因素 | 第14-15页 |
| ·TiO_2光催化剂的改性 | 第15-19页 |
| ·光催化剂的研究进展 | 第19-22页 |
| ·传统氧化物或硫化物光催化剂 | 第19-20页 |
| ·新型光催化剂 | 第20-22页 |
| ·选题依据和研究内容 | 第22-24页 |
| 第2章 以PAMAM为模板介孔ZnWO_4的制备及光催化性能研究 | 第24-34页 |
| ·前言 | 第24-25页 |
| ·实验部分 | 第25-26页 |
| ·试剂与仪器 | 第25页 |
| ·介孔结构ZnWO_4的制备 | 第25页 |
| ·光催化活性测试 | 第25-26页 |
| ·结果与讨论 | 第26-32页 |
| ·XRD表征 | 第26-27页 |
| ·氮吸附/脱附及孔径分布曲线 | 第27-28页 |
| ·高倍数透射电镜和扫描电镜 | 第28-31页 |
| ·固体紫外漫反射 | 第31页 |
| ·光催化性能评价 | 第31-32页 |
| ·小结 | 第32-34页 |
| 第3章 以PAMAM为模板纳米CoWO_4的合成及光催化性能研究 | 第34-46页 |
| ·引言 | 第34-35页 |
| ·实验部分 | 第35-36页 |
| ·试剂与仪器 | 第35页 |
| ·催化剂的制备 | 第35页 |
| ·催化剂的表征 | 第35页 |
| ·光催化活性的表征 | 第35-36页 |
| ·结果与讨论 | 第36-44页 |
| ·透射电镜分析 | 第36-37页 |
| ·X射线衍射分析 | 第37-39页 |
| ·光催化性能研究 | 第39-41页 |
| ·催化剂使用量对催化性能的影响 | 第41-42页 |
| ·pH对光催化性能的影响 | 第42-43页 |
| ·催化剂的稳定性 | 第43-44页 |
| ·小结 | 第44-46页 |
| 第4章 氮掺杂可见光响应ZnWO_4光催化剂制备及表征 | 第46-58页 |
| ·引言 | 第46-47页 |
| ·实验部分 | 第47-48页 |
| ·试剂与仪器 | 第47页 |
| ·催化剂的合成 | 第47页 |
| ·光催化测试 | 第47-48页 |
| ·结果与讨论 | 第48-53页 |
| ·X射线衍射分析 | 第48-49页 |
| ·X射线光电子能谱分析 | 第49-51页 |
| ·傅立叶-红外光谱分析 | 第51-52页 |
| ·固体紫外漫反射光谱分析 | 第52-53页 |
| ·光催化性能研究 | 第53-56页 |
| ·不同条件光催化降解罗丹明B | 第53-54页 |
| ·催化剂使用量对光催化性能的影响 | 第54-55页 |
| ·不同H_2O_2浓度对光催化性能的影响 | 第55-56页 |
| ·小结 | 第56-58页 |
| 第5章 PAMAM模板法合成纳米Cd_(1-x)Zn_xS固熔体及光催化性能 | 第58-66页 |
| ·引言 | 第58页 |
| ·实验部分 | 第58-59页 |
| ·催化剂的制备 | 第58页 |
| ·催化剂的表征 | 第58-59页 |
| ·光催化性能研究 | 第59页 |
| ·结果与讨论 | 第59-64页 |
| ·X射线衍射分析 | 第59-60页 |
| ·投射电镜分析 | 第60-61页 |
| ·固体紫外漫反射分析 | 第61-62页 |
| ·N_2吸附/脱附分析 | 第62页 |
| ·光催化活性研究 | 第62-63页 |
| ·机理讨论 | 第63-64页 |
| ·结论 | 第64-66页 |
| 第6章 总结与展望 | 第66-68页 |
| 参考文献 | 第68-81页 |
| 攻读学位期间承担的科研任务及主要成果 | 第81-82页 |
| 致谢 | 第82-83页 |
| 个人简历 | 第83-84页 |
