光刻胶光栅掩模槽形的控制研究
| 中文摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-9页 |
| 第一章 引言 | 第9-15页 |
| ·光栅的制作简介 | 第9-12页 |
| ·机械刻划法 | 第10页 |
| ·全息方法 | 第10-12页 |
| ·干涉光束扫描光刻法 | 第12页 |
| ·纳米压印法 | 第12页 |
| ·研究的目的和意义 | 第12-13页 |
| ·研究的目的 | 第12-13页 |
| ·研究光刻胶光栅掩模槽形的意义 | 第13页 |
| ·国内外研究状况 | 第13-14页 |
| ·论文的主要内容 | 第14-15页 |
| 第二章 光刻胶特性研究 | 第15-37页 |
| ·光刻胶感光和显影特性研究 | 第15-18页 |
| ·光刻胶的感光特性 | 第16-17页 |
| ·光刻胶显影特性 | 第17-18页 |
| ·光刻胶特性研究的实验方案 | 第18-20页 |
| ·实验方案 | 第18-19页 |
| ·实验中单位的转换 | 第19页 |
| ·测量Vmin 的实验方案 | 第19-20页 |
| ·用441.6nm 波长的台阶实验 | 第20-26页 |
| ·显影液浓度不同的比较 | 第20-23页 |
| ·显影液温度不同的比较 | 第23-24页 |
| ·显影时间不同的比较 | 第24-26页 |
| ·用413.1nm 波长的台阶实验 | 第26-30页 |
| ·显影液浓度不同的比较 | 第26-28页 |
| ·显影液温度不同的比较 | 第28-29页 |
| ·显影时间不同的比较 | 第29-30页 |
| ·对不同波长的光刻胶特性曲线的比较 | 第30-32页 |
| ·Shipley 光刻胶对两种波长的特性曲线 | 第30-31页 |
| ·曝光当量 | 第31-32页 |
| ·不同种类光刻胶的显影特性曲线比较 | 第32-35页 |
| ·本章小结 | 第35-37页 |
| 第三章 光刻胶全息光栅掩模的形成 | 第37-47页 |
| ·光刻胶全息光栅曝光模型 | 第37-39页 |
| ·光刻胶全息光栅显影模型 | 第39-42页 |
| ·光刻胶光栅掩模槽形实验与模拟 | 第42-46页 |
| ·本章小结 | 第46-47页 |
| 第四章 光刻胶光栅掩模槽形的控制 | 第47-60页 |
| ·曝光量和显影时间对槽形的影响 | 第47-48页 |
| ·显影液温度18℃ | 第47页 |
| ·显影液温度28℃ | 第47-48页 |
| ·同浓度、不同显影时间对槽形的影响 | 第48-49页 |
| ·显影液浓度对槽形的影响 | 第49-50页 |
| ·显影液温度对槽形的影响 | 第50-51页 |
| ·光栅空间频率对槽形的影响 | 第51页 |
| ·波长对槽形的影响 | 第51-53页 |
| ·光刻胶种类不同对槽形的影响 | 第53-54页 |
| ·控制槽形的实验 | 第54-57页 |
| ·槽形是平顶的实验结果与模拟 | 第54-55页 |
| ·槽形是矩形的实验结果与模拟 | 第55-57页 |
| ·槽形是正弦的实验结果与模拟 | 第57页 |
| ·本章小结 | 第57-60页 |
| 第五章 总结与展望 | 第60-63页 |
| ·总结 | 第60-61页 |
| ·展望 | 第61-63页 |
| 参考文献 | 第63-67页 |
| 攻读学位期间公开发表的论文 | 第67-68页 |
| 附录 | 第68-71页 |
| 致谢 | 第71-72页 |
| 详细摘要 | 第72-75页 |
