| 摘要 | 第1-12页 |
| Abstract | 第12-16页 |
| 第一章 文献综述 | 第16-72页 |
| 第一节 组合材料学简介 | 第16-32页 |
| ·组合材料学的发展简史 | 第16-17页 |
| ·组合方法学的基本原理 | 第17-18页 |
| ·材料库的设计 | 第18-19页 |
| ·基因算法(Genetic Algorithms) | 第18-19页 |
| ·随机算法(Monte Carlo)及其它 | 第19页 |
| ·组合材料库的并行合成技术 | 第19-28页 |
| ·薄膜沉积法制备组合材料库 | 第19-25页 |
| ·薄膜沉积的设备 | 第19-20页 |
| ·物理掩模遮蔽/光刻技术 | 第20-25页 |
| ·二元物理掩模 | 第20-21页 |
| ·四元掩模 | 第21-23页 |
| ·光刻技术 | 第23页 |
| ·原位物理掩模 | 第23-25页 |
| ·薄膜材料库的处理 | 第25页 |
| ·液相法合成组合材料库 | 第25-28页 |
| ·液相法合成材料库的设备 | 第26-27页 |
| ·液滴传送及存在的问题 | 第27-28页 |
| ·液相法合成材料库的处理 | 第28页 |
| ·材料库的高通量表征 | 第28-31页 |
| ·概述 | 第28-30页 |
| ·照相术 | 第30页 |
| ·组合扫描荧光测量系统 | 第30-31页 |
| ·数据处理——组合材料信息学 | 第31-32页 |
| 第二节 液滴喷射技术及其应用 | 第32-43页 |
| ·液滴喷射技术原理 | 第32-33页 |
| ·液滴喷射技术应用实例 | 第33-39页 |
| ·液滴喷射在无模具成形、微制造中的应用 | 第33-35页 |
| ·液滴喷射在光电器件制造中的应用 | 第35-36页 |
| ·液滴喷射在材料科学中的应用 | 第36-39页 |
| ·本课题组自行研制的组合液滴喷射合成仪简介 | 第39-42页 |
| ·组合液滴喷射合成仪的结构、原理 | 第39-40页 |
| ·组合液滴喷射合成仪的控制电路 | 第40-41页 |
| ·组合液滴喷射合成仪的系统性能 | 第41-42页 |
| ·小结 | 第42-43页 |
| 第三节 红色真空紫外荧光材料研究进展以及组合法在筛选真空紫外荧光材料研究中的应用 | 第43-66页 |
| ·红色VUV荧光材料研究进展 | 第43-63页 |
| ·引言——研究意义 | 第43-45页 |
| ·PDP显示技术原理 | 第45-46页 |
| ·PDP常用三基色荧光粉及其存在的问题 | 第46-47页 |
| ·红色PDP荧光粉研究进展 | 第47-63页 |
| ·硼酸盐体系研究进展 | 第49-53页 |
| ·磷酸盐体系研究进展 | 第53-55页 |
| ·硼酸盐物质结构及其真空紫外发光能量传递机理 | 第55-63页 |
| ·组合法筛选真空紫外荧光粉研究的进展 | 第63-66页 |
| 参考文献 | 第66-72页 |
| 第二章 超细/纳米悬浮液的制备以及采用难溶物悬浮液作为前躯体喷射合成组合材料库 | 第72-88页 |
| 第一节 在纯水中高能球磨难溶氧化物制备超细/纳米悬浮液 | 第72-80页 |
| ·引言 | 第72-73页 |
| ·实验部分 | 第73-74页 |
| ·悬浮液制备 | 第73-74页 |
| ·样品表征 | 第74页 |
| ·悬浮液稳定性测试 | 第74页 |
| ·透射电镜(TEM) | 第74页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第74页 |
| ·结果与讨论 | 第74-80页 |
| ·球磨时间对悬浮液稳定性的影响 | 第74-78页 |
| ·分散剂和稳定剂对悬浮液稳定性的影响 | 第78页 |
| ·球磨转速和初始条件对悬浮液稳定性的影响 | 第78-80页 |
| ·结论 | 第80页 |
| 第二节 采用难溶物超细/纳米悬浮液作为前躯体喷射合成组合材料库 | 第80-87页 |
| ·实验部分 | 第80-83页 |
| ·微反应器的预处理 | 第80-81页 |
| ·悬浮液的配制以及除气处理 | 第81页 |
| ·预喷射液滴质量的标定 | 第81页 |
| ·材料库的喷射合成与烧结 | 第81-82页 |
| ·材料库的表征 | 第82-83页 |
| ·实验结果与讨论 | 第83-86页 |
| ·材料库内样品的物质结构 | 第83-84页 |
| ·材料库内样品发光性能 | 第84-86页 |
| ·结论 | 第86-87页 |
| 参考文献 | 第87-88页 |
| 第三章 组合真空紫外荧光表征系统的研制 | 第88-108页 |
| 第一节 组合真空紫外荧光表征系统的设计 | 第88-100页 |
| ·光源选择 | 第88-90页 |
| ·XeLM-L Xe灯介绍 | 第90-91页 |
| ·组合真空紫外荧光表征系统真空室设计 | 第91-96页 |
| ·法兰的选择 | 第91-92页 |
| ·法兰的布局 | 第92页 |
| ·真空室的设计 | 第92-96页 |
| ·XeLM-L Xe灯光源可行性的评估 | 第96-100页 |
| 第二节 组合真空紫外荧光表征系统的组装及性能 | 第100-107页 |
| ·真空室的加工与系统的组装 | 第100页 |
| ·系统性能 | 第100-103页 |
| ·系统不均匀性的校正——真空紫外发光照片处理程序 | 第103-107页 |
| ·编程思想 | 第103-104页 |
| ·程序性能测试——应用实例 | 第104-107页 |
| 第三节 结论以及对系统改进的设想 | 第107页 |
| 参考文献 | 第107-108页 |
| 第四章 真空紫外激发下Eu~(3+)发光中心敏化剂的组合筛选 | 第108-139页 |
| 第一节 组合筛选Eu~(3+)掺杂Y_2O_3-B_2O_3-P_2O_5-SiO_2体系的真空紫外发光 | 第108-121页 |
| ·引言 | 第108-109页 |
| ·实验部分 | 第109-112页 |
| ·Y_2O_3-B_2O_3-P_2O_5-SiO_2四面体材料库的设计与二维排布 | 第109-110页 |
| ·材料库的合成 | 第110-112页 |
| ·材料库发光性能的表征 | 第112页 |
| ·实验结果与讨论 | 第112-120页 |
| ·材料库的真空紫外发光性能 | 第112-114页 |
| ·材料库的紫外发光性能 | 第114-117页 |
| ·采用常规方法对对组合法初筛结果进行验证、优化 | 第117-120页 |
| ·结论 | 第120-121页 |
| 第二节 组合法筛选Pr~(3+)/Tb~(3+)/Sm~(3+)/Bi~(3+)掺杂(Y,Gd)BO_3:Eu~(3+)真空紫外发光 | 第121-128页 |
| ·引言 | 第121-122页 |
| ·实验部分 | 第122页 |
| ·材料库的设计 | 第122页 |
| ·材料库的合成与表征 | 第122页 |
| ·实验结果与讨论 | 第122-127页 |
| ·Pr~(3+)/Tb~(3+)/Sm~(3+)/Bi~(3+)掺杂(Y,Gd)BO_3:Eu~(3+)材料库的组合筛选 | 第122-123页 |
| ·采用常规方法对组合法筛选结果进行验证 | 第123-127页 |
| ·结论 | 第127-128页 |
| 第三节 组合法优化(Y_(1-z)Gd_z)_(1-y-x)Bi_yEu_xO_3体系的VUV发光 | 第128-137页 |
| ·引言 | 第128页 |
| ·实验部分 | 第128页 |
| ·实验结果与讨论 | 第128-136页 |
| ·Gd~(3+)和Bi~(3+)掺杂量的组合优化 | 第128-131页 |
| ·Bi~(3+)和Eu~(3+)掺杂量的组合优化 | 第131-134页 |
| ·采用常规实验方法进一步优化结果 | 第134-136页 |
| ·结论 | 第136-137页 |
| 参考文献 | 第137-139页 |
| 第五章 真空紫外激发下(Y,Gd)BO_3:Bi~(3+),Eu~(3+)体系中的能量传递机理研究 | 第139-148页 |
| 1 引言 | 第139页 |
| 2 实验部分 | 第139页 |
| 3 实验结果与讨论 | 第139-145页 |
| 4 结论 | 第145-146页 |
| 参考文献 | 第146-148页 |
| 读博期间发表论文、受理专利和获奖情况 | 第148-150页 |
| 致谢 | 第150页 |
