| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 目录 | 第8-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-25页 |
| ·氮化硅的晶体结构 | 第10-11页 |
| ·氮化硅的性能与应用 | 第11-14页 |
| ·氮化硅的基本物理、化学性能 | 第12页 |
| ·氮化硅陶瓷的机械性能 | 第12页 |
| ·氮化硅陶瓷摩擦学性能 | 第12-13页 |
| ·氮化硅的应用 | 第13-14页 |
| ·氮化硅陶瓷的烧结工艺 | 第14-16页 |
| ·反应烧结 | 第14页 |
| ·常压烧结 | 第14页 |
| ·重烧结 | 第14-15页 |
| ·热压烧结 | 第15页 |
| ·气压烧结 | 第15页 |
| ·热等静压法 | 第15-16页 |
| ·放电等离子体烧结法 | 第16页 |
| ·氮化硅的增韧 | 第16-19页 |
| ·纤维或晶须增韧 | 第16-17页 |
| ·自增韧 | 第17页 |
| ·叠层复合增韧 | 第17页 |
| ·ZrO_2相变增韧 | 第17-18页 |
| ·颗粒增韧 | 第18-19页 |
| ·MoSi_2和Mo_5Si_3的结构和基本性能 | 第19-20页 |
| ·本论文研究的目的和意义 | 第20页 |
| 参考文献 | 第20-25页 |
| 第二章 复合材料SiN_4-MoSi_2的原位生成 | 第25-36页 |
| ·引言 | 第25-26页 |
| ·实验部分 | 第26-28页 |
| ·实验原料 | 第26页 |
| ·初始粉体制备 | 第26-27页 |
| ·配料和烧结制度 | 第27页 |
| ·烧结体物相分析 | 第27-28页 |
| ·结果与讨论 | 第28-33页 |
| ·结论 | 第33页 |
| 参考文献 | 第33-36页 |
| 第三章 原位生成MoSi_2增强Si_3N_4复合材料的微观结构和力学性能 | 第36-54页 |
| ·引言 | 第36页 |
| ·实验部分 | 第36-38页 |
| ·实验原料与初始粉体制备 | 第36页 |
| ·配料和烧结制度 | 第36-37页 |
| ·测试手段 | 第37-38页 |
| ·测试原理 | 第38-39页 |
| ·密度测试 | 第38页 |
| ·断裂韧性参数的测试 | 第38-39页 |
| ·硬度的测试 | 第39页 |
| ·显微结构 | 第39-46页 |
| ·相分析 | 第39-40页 |
| ·表面形貌 | 第40-42页 |
| ·助烧剂分布 | 第42-43页 |
| ·表面显微结构 | 第43-44页 |
| ·复合材料内部应力 | 第44-46页 |
| ·力学性能 | 第46-51页 |
| ·相对密度与硬度 | 第47-48页 |
| ·断裂韧性 | 第48-51页 |
| ·结论 | 第51-52页 |
| 参考文献 | 第52-54页 |
| 第四章 Si_3N_4-Mo_5Si_3复合材料的摩擦磨损行为研究 | 第54-66页 |
| ·引言 | 第54页 |
| ·实验部分 | 第54-55页 |
| ·实验原料与配料 | 第54-55页 |
| ·初始粉体制备与烧结制度 | 第55页 |
| ·试样预处理与摩擦实验条件 | 第55页 |
| ·显微结构与力学性能 | 第55-58页 |
| ·XRD物相分析与表面形貌 | 第55-57页 |
| ·力学性能 | 第57-58页 |
| ·摩擦磨损实验结果与讨论 | 第58-63页 |
| ·实验结果 | 第58-59页 |
| ·磨损表面的SEM与磨屑的XPS分析 | 第59-62页 |
| ·讨论 | 第62-63页 |
| ·结论 | 第63页 |
| 参考文献 | 第63-66页 |
| 第五章 总结与展望 | 第66-68页 |
| ·结论 | 第66-67页 |
| ·展望 | 第67-68页 |
| 致谢 | 第68页 |
